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란탄 산화물 또는 란탄 산염 수화물 및 니켈 산화물 또는 니켈 산염 수화물인 전도성 산화물 원료 분말을 밀링으로 혼합한 후 하소(calcining)하여 전도성 산화물을 제조하는 단계(단계 1);
상기 단계 1에서 제조된 전도성 산화물을 재밀링하여 전도성 산화물 분말을 제조하는 단계(단계 2); 및
상기 단계 2에서 제조된 전도성 산화물 분말을 기판상에 에어로졸 증착법으로 증착하는 단계(단계 3)를 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 단계 3에 의해 형성된 후막이 증착된 기판을 300~700 ℃의 온도로 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 단계 1의 원료 분말은 1:1의 비율로 혼합되는 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 단계 1의 원료 분말의 하소는 600~900 ℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 단계 2의 전도성 산화물 분말의 평균 입경은 0
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제 1항에 있어서, 상기 단계 3의 기판은 사파이어, 실리콘, 지르코니아, 티타늄 및 스테인레스 스틸로 구성되는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 단계 3의 에어로졸 증착은 100~500 m/s로 분말을 가속시킴에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 단계 3의 에어로졸 증착에 의하여 형성된 후막의 두께는 1~50 ㎛인 것을 특징으로 하는 에어로졸 증착법을 이용한 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항 , 제 2항, 및 제 4항 내지 제 9항 중 어느 한 항의 방법을 이용하여 제조된 치밀한 상온 전도성 산화물 후막
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제 1항에 있어서, 상기 란탄 산화물은 La2O3인 것을 특징으로 하는 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 란탄 산염 수화물은 La(CH3COO)3·6H2O 또는 La(NO3)3·6H2O인 것을 특징으로 하는 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 니켈 산화물은 NiO인 것을 특징으로 하는 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 니켈 산염 수화물은 Ni(NO3)4·6H2O인 것을 특징으로 하는 치밀한 상온 전도성 산화물 후막의 제조방법
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