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전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 및 렌즈 제작방법

  • 기술번호 : KST2015128991
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법은 기판부 상에 자성을 가지는 재질의 전사패턴을 형성하는 전사패턴 형성단계; 상기 전사패턴을 버퍼부에 전사하는 제1전사단계; 오목한 형상의 함몰부가 형성되는 마스터를 마련하는 마스터 마련단계; 상기 버퍼부에 전사된 상기 전사패턴을 자력을 이용하여 상기 마스터에 부착하여 렌즈몰드를 제작하는 렌즈몰드 제작단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.이에 의하여, 나노/마이크로 렌즈몰드를 용이하게 제작하고, 나노/마이크로 렌즈를 저렴하게 대량으로 생산할 수 있는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법 및 렌즈 제작방법이 제공된다.
Int. CL B29C 33/42 (2006.01) B29C 33/38 (2006.01) B29C 59/02 (2006.01)
CPC B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01)
출원번호/일자 1020120026108 (2012.03.14)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1255726-0000 (2013.04.11)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130417) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.03.14)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장성환 대한민국 대전 유성구
2 최두선 대한민국 대전 유성구
3 김재현 대한민국 대전 유성구
4 유영은 대한민국 서울 강남구
5 황경현 대한민국 서울 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.03.14 수리 (Accepted) 1-1-2012-0206486-47
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2012.06.08 수리 (Accepted) 1-1-2012-0457130-29
3 우선심사신청관련 서류제출서
Submission of Document Related to Request for Accelerated Examination		 2012.08.09 수리 (Accepted) 1-1-2012-0638413-91
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.10.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0610516-97
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2012-1034348-44
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.12.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-1034423-71
7 등록결정서
Decision to grant		 2013.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0090399-11
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판부 상에 자력에 영향을 받는 재질의 전사패턴을 형성하는 전사패턴 형성단계;상기 전사패턴을 버퍼부에 전사하는 제1전사단계;오목한 형상의 함몰부가 형성되는 마스터를 마련하는 마스터 마련단계;상기 버퍼부에 전사된 상기 전사패턴을 자력을 이용하여 상기 마스터에 부착하여 렌즈몰드를 제작하는 렌즈몰드 제작단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법
2 2
제1항에 있어서,상기 렌즈몰드 제작단계에서 상기 전사패턴이 배치되는 반대편의 상기 마스터 면에 자력을 가지는 자성부를 배치함으로써, 상기 전사패턴이 상기 마스터에 부착되도록 하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법
3 3
제1항에 있어서,상기 렌즈몰드 제작단계는 상기 버퍼부에 형성되는 전사패턴을 상기 마스터로 전사하는 제2전사단계; 상기 전사패턴이 배치되는 반대패턴의 상기 마스터 면에 자력을 가지는 자성부를 배치함으로써, 상기 전사 패턴이 상기 마스터에 부착되도록 하는 자력인가단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법
4 4
제1항에 있어서,상기 전사패턴 형성단계는 기판부가 형성되도록 베이스 상에 희생층을 적층하는 희생층 적층단계; 상기 희생층 상에 상기 전사패턴을 패터닝 하는 패터닝 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법
5 5
제4항에 있어서,상기 제1전사단계와 상기 마스터 마련단계 사이에 상기 희생층을 제거하는 희생층 제거단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법
6 6
제5항에 있어서,상기 희생층 적층단계에서 상기 희생층은 이산화 규소(SiO2)이고,상기 희생층 제거단계는 플루오루화수소(HF) 용액 또는 버퍼된 산화 식각(BOE) 용액 중 어느 하나로 상기 희생층을 제거하거나 전기화학적 에칭(electrochemical etching)을 이용하여 상기 희생층을 제거하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법
7 7
제1항에 있어서,상기 전사패턴 형성단계는 상호 이격되는 복수개의 스트라이프(stripe) 형태 또는 그리드(grid) 형태의 전사패턴을 증착하는 것을 특징으로 하는 전사를 이용한 나노/마이크로 렌즈몰드 제작방법
8 8
제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 방법으로 제작되는 렌즈몰드에 UV 경화레진 또는 열 경화 레진을 충진하는 충진단계;상기 렌즈몰드에 충진된 상기 레진을 경화하는 경화단계;상기 렌즈몰드로부터 상기 레진을 이형하는 이형단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 렌즈 제작방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 (주)엘엠에스 지경부-국가연구개발사업(II) 광경화성 수지를 이용한 캐스팅 타입의 리플로우용 휴대폰 렌즈 개발 (1/3)
2 지식경제부 한국기계연구원 주요사업-기관고유 고효율 포토닉스 부품 생산 핵심시스템 개발