| 1 |
1
제1 잉크막을 롤러부의 블랭킷(blanket)에 코팅하고, 클리쉐에 형성된 클리쉐 패턴을 이용해 상기 블랭킷으로부터 제거 패턴을 오프(off)하고, 상기 롤러부를 기판부의 상면에서 회전시켜 기판부에 제1 미세 패턴을 형성하는 제1 미세 패턴 형성 단계; 및제2 잉크막을 상기 롤러부의 블랭킷에 코팅하고, 상기 롤러부를 상기 기판부의 상면에서 회전시켜 상기 기판부의 제1 미세 패턴 상에 제2 미세 패턴을 형성하는 제2 미세 패턴 형성 단계를 포함하는 후막 패턴 형성방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 제3 잉크막을 상기 롤러부의 블랭킷에 코팅하고, 상기 롤러부를 상기 기판부의 상면에서 회전시켜 상기 기판부의 제2 미세 패턴 상에 제3 미세 패턴을 형성하는 제3 미세 패턴 형성 단계를 더 포함하는 후막 패턴 형성방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 제2 미세 패턴 형성 단계에서, 상기 블랭킷에 코팅된 상기 제2 잉크막 중, 상기 기판부의 제1 미세 패턴과 접촉하는 부분이 상기 제1 미세 패턴 상에 중첩되어 상기 제2 미세 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 후막 패턴 형성방법
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 블랭킷에 코팅된 상기 제2 잉크막 중, 상기 제2 미세 패턴으로 전사되지 않은 부분을 세정하는 단계를 더 포함하는 후막 패턴 형성방법
|
| 5 |
5
제3항에 있어서, 상기 제1 미세 패턴의 높이는 수 μm인 것을 특징으로 하는 후막 패턴 형성방법
|
| 6 |
6
제1항에 있어서, 상기 제1 미세 패턴 형성 단계에서, 상기 제1 잉크막을 상기 롤러부의 블랭킷 상에 슬릿 코팅(slit coating)하며, 상기 제2 미세 패턴 형성 단계에서, 상기 제2 잉크막을 상기 롤러부의 블랭킷 상에 슬릿 코팅(slit coating)하는 것을 특징으로 하는 후막 패턴 형성방법
|
| 7 |
7
제1항에 있어서, 상기 제1 미세 패턴 형성 단계에서, 상기 제1 잉크막을 베이스부 상에 코팅하고, 상기 롤러부를 상기 제1 잉크막의 상면에서 회전시켜, 상기 블랭킷에 상기 제1 잉크막이 전사되고, 상기 제2 미세 패턴 형성 단계에서, 상기 제2 잉크막을 상기 베이스부 상에 코팅하고, 상기 롤러부를 상기 제2 잉크막의 상면에서 회전시켜, 상기 블랭킷에 상기 제2 잉크막이 전사되는 것을 특징으로 하는 후막 패턴 형성방법
|
| 8 |
8
제7항에 있어서, 상기 제1 및 제2 잉크막들은 상기 베이스부 상에 스핀코팅(spin coating), 슬릿 코팅(slit coating), 바 코팅(bar coating) 중 어느 하나의 공정으로 상기 베이스부 상에 코팅되는 것을 특징으로 하는 후막 패턴 형성방법
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 제1 미세 패턴 형성 단계에서, 상기 클리쉐 패턴은 상기 클리쉐 상에 돌출되어 형성되며, 상기 클리쉐 패턴이 형성되지 않은 부분은 리세스 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 후막 패턴 형성방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서, 상기 제1 미세 패턴 형성 단계에서, 상기 블랭킷에 코팅된 제1 잉크막 중 상기 클리쉐 패턴에 대응되는 부분이 상기 클리쉐 패턴 상으로 제거되고, 상기 리세스 패턴에 대응되는 부분이 상기 기판부로 전사되어 상기 제1 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 후막 패턴 형성방법
|
