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극초단 펄스 레이저를 발생시키는 레이저 발생부;상기 레이저 발생부에서 발생한 상기 레이저를 분할하여 서로 다른 길이의 경로로 진행시키는 분할부;상기 분할부에서 출사된 상기 레이저의 진행 경로를 병합하는 병합부; 및진행 경로가 병합된 상기 레이저를 이용하여 공작물을 가공하는 가공부;를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제1 항에 있어서,상기 분할부는 분할된 일부 레이저의 편광을 변화시키는 편광변경부재를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제1 항에 있어서,상기 분할부는,상기 레이저를 분할하는 빔 분할기;분할된 레이저의 편광을 변화시키는 편광변경부재; 분할된 레이저의 출력을 조절하는 편광판; 및분할된 레이저의 경로를 조절하는 이송부재;를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제3 항에 있어서,상기 이송부재는 분할된 상기 레이저의 경로의 전환시키는 반사부재와 상기 반사부재를 이송시키는 이송 스테이지를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제4 항에 있어서,상기 이송부재는 두 개의 반사부재를 포함하며 상기 반사부재들은 레이저의 진행 경로를 180도로 전환시킬 수 있도록 서로 대칭되는 구조로 설치되는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 병합부는 분할된 상기 레이저들의 진행 경로가 교차하는 곳에 설치되는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 병합부와 상기 가공부 사이에는 병합된 레이저들의 경로의 일치여부를 진단하는 진단부가 설치되는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제7 항에 있어서,상기 진단부는 진단용 빔 분할기와 상기 진단용 빔 분할기에서 분할된 레이저가 입사되는 포토다이오드(Photodiode), 및 상기 포토다이오드에서 전송되는 신호를 현시하는 오실로스코프를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가공부는 상기 공작물이 장착되는 가공 스테이지와 상기 가공 스테이지의 상부에 설치되어 상기 레이저를 반사하는 반사부재와 반사된 상기 레이저를 집속하여 상기 가공 스테이지로 전달하는 렌즈를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 레이저 발생부와 상기 빔 분할부 사이에는 상기 레이저의 에너지편차를 감소시키는 마스크가 설치되는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 레이저 발생부와 상기 분할부 사이에는 상기 레이저 발생부로부터 상기 레이저를 전달받아 상기 레이저를 분할하는 측정용 빔 분할기;상기 측정용 빔 분할기로부터 하나의 레이저를 전달받아 레이저의 폭을 실시간으로 측정하는 자기상관계;상기 측정용 빔 분할기로부터 다른 레이저를 전달받아 레이저의 출력을 감소시키는 빔 감쇄기; 및상기 레이저의 집중도를 분산시키는 마스크;를 포함하는 빔 조절부가 설치되는 극초단 펄스 레이저 가공 장치
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극초단 펄스 레이저를 발생시키는 단계;상기 레이저를 분할하는 단계;분할된 상기 레이저를 길이가 서로 다른 경로로 진행시키는 단계;분할된 상기 레이저의 경로를 병합하는 단계; 및시간차를 갖는 상기 레이저를 공작물로 조사하여 가공하는 단계;를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 방법
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제 12항에서 있어서,상기 극초단 펄스 레이저 가공 방법은 마스크를 이용하여 상기 레이저의 에너지 편차를 감소시키는 단계를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 방법
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제 12항에서 있어서,상기 극초단 펄스 레이저 가공 방법은 분할된 일부 레이저의 편광을 변화시키는 단계를 포함하는 극초단 펄스 레이저 가공 방법
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제 12항에서 있어서,상기 분할된 상기 레이저를 길이가 서로 다른 경로로 진행시키는 단계에 있어서, 분할된 상기 레이저는 분할된 상기 레이저를 반사시키는 반사부재가 설치된 이송 스테이지의 이동에 의하여 경로가 변화되는 극초단 펄스 레이저 가공 방법
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