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형성하고자 하는 프로브 핀의 형상에 대응하는 트렌치를 포함하는 베이스 기판; 및상기 베이스 기판의 상부에 형성되는 부도체막 패턴을 포함하고,상기 베이스 기판은 스테인리스 기판인 것을 특징으로 하는 몰드용 기판
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제 1 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 포토레지스트 패턴이고,상기 포토레지스트 패턴은 상기 트렌치와 대응되는 홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드용 기판
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제 1 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 절연막 패턴이고,상기 절연막 패턴은 상기 트렌치와 대응되는 홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드용 기판
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형성하고자 하는 프로브 핀의 형상에 대응하는 제1홀을 포함하는 제1베이스 기판;상기 제1베이스 기판의 상부에 형성되는 부도체막 패턴; 및상기 제1베이스 기판의 하부에 형성되는 제2베이스 기판을 포함하고,상기 제1베이스 기판 및 상기 제2베이스 기판은 스테인리스 기판인 것을 특징으로 하는 몰드용 기판
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제 4 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 포토레지스트 패턴이고,상기 포토레지스트 패턴은 상기 제1홀과 대응되는 제2홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드용 기판
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6
제 4 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 절연막 패턴이고,상기 절연막 패턴은 상기 제1홀과 대응되는 제2홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 몰드용 기판
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7
베이스 기판을 제공하는 단계;상기 베이스 기판 상에 형성하고자 하는 프로브 핀의 형상에 대응하는 트렌치를 형성하는 단계; 및상기 베이스 기판의 상부에 부도체막 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,상기 베이스 기판은 스테인리스 기판인 것을 특징으로 하는 프로브 핀의 제조방법
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8
제 7 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 포토레지스트 패턴이고,상기 포토레지스트 패턴에 의해 노출되어 있는 상기 베이스 기판을 식각하여 상기 트렌치를 형성하는 것을 특징으로 하는 프로브 핀의 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 절연막 패턴이고,상기 트렌치 및 상기 절연막 패턴은 레이저 가공법에 의해 동시에 형성되는 것을 특징으로 하는 프로브 핀의 제조방법
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10
제 7 항에 있어서,상기 부도체막 패턴을 마스크로 하여, 상기 트렌치의 표면 상부에 도금 공정을 수행하여 도금층을 형성하는 단계; 및상기 도금층을 평탄화하여 프로브 핀을 제조하는 단계를 더 포함하는 프로브 핀의 제조방법
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11
제 10 항에 있어서,상기 프로브 핀을 포함하는 상기 베이스 기판을 저온 냉각하여, 상기 프로브 핀이 상기 베이스 기판으로부터 이형되어 상호 분리되는 것을 특징으로 하는 프로브 핀의 제조방법
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12
제1베이스 기판을 제공하는 단계;상기 제1베이스 기판 상에 형성하고자 하는 프로브 핀의 형상에 대응하는 홀을 형성하는 단계;상기 제1베이스 기판의 상부에 부도체막 패턴을 형성하는 단계; 및상기 제1베이스 기판의 하부에 제2베이스 기판을 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1베이스 기판 및 제2베이스 기판은 스테인리스 기판인 것을 특징으로 하는 프로브 핀의 제조방법
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13
제 12 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 포토레지스트 패턴이고,상기 포토레지스트 패턴에 의해 노출되어 있는 상기 제1베이스 기판을 식각하여 상기 홀을 형성하는 것을 특징으로 하는 프로브 핀의 제조방법
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14
제 12 항에 있어서,상기 부도체막 패턴은 절연막 패턴이고,상기 홀 및 상기 절연막 패턴은 레이저 가공법에 의해 동시에 형성되는 것을 특징으로 하는 프로브 핀의 제조방법
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15
제 12 항에 있어서,상기 부도체막 패턴을 마스크로 하여, 상기 홀에 도금 공정을 수행하여 도금층을 형성하는 단계; 및상기 도금층을 평탄화하여 프로브 핀을 제조하는 단계를 더 포함하는 프로브 핀의 제조방법
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16
제 15 항에 있어서,상기 제1베이스 기판의 하부에 형성된 상기 제2베이스 기판을 상기 제1베이스 기판으로부터 분리하는 단계를 더 포함하는 프로브 핀의 제조방법
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