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폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015129121
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 폴리머층을 식각 보호층으로 이용하는 돌기 패턴의 형성 방법이 제공된다. 기판 상에 폴리머층을 형성한다. 상기 폴리머층을 플라즈마 처리하여, 상기 폴리머층을 관통하는 복수의 홀들을 형성한다. 상기 폴리머층을 식각 보호층으로 이용하여, 상기 복수의 홀들로부터 노출된 상기 기판의 표면을 선택적으로 식각하여, 상기 기판 상에 돌기 패턴을 형성한다.
Int. CL B44C 1/22 (2006.01)
CPC B44C 1/227(2013.01) B44C 1/227(2013.01)
출원번호/일자 1020100124824 (2010.12.08)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1235834-0000 (2013.02.15)
공개번호/일자 10-2012-0063725 (2012.06.18) 문서열기
공고번호/일자 (20130221) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.08)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 나종주 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 김종국 대한민국 경상남도 창원시 성산구
3 권정대 대한민국 경상남도 창원시 성산구
4 배종수 대한민국 경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 한윤호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **(삼성동) 명지빌딩, *층(선정국제특허법률사무소)
3 박기원 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)
4 양기혁 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **(삼성동) 명지빌딩, *층(선정국제특허법률사무소)
5 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0808285-51
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0438578-15
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.09.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0791814-96
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0791813-40
7 등록결정서
Decision to grant		 2013.02.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0103537-21
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 폴리머층을 형성하는 단계;상기 폴리머층을 플라즈마 처리하여, 상기 폴리머층의 분자들의 결합부분 또는 상기 폴리머층의 클러스터들의 결합부분을 우선 식각하여, 상기 폴리머층을 관통하는 복수의 홀들을 형성하는 단계; 및상기 폴리머층을 식각 보호층으로 이용하여, 상기 복수의 홀들로부터 노출된 상기 기판의 표면을 선택적으로 식각하여, 상기 기판 상에 돌기 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 복수의 홀들을 형성하는 단계는 마스크 없이 상기 폴리머층의 일부분들이 상기 플라즈마 처리에 의해서 우선 식각되도록 수행하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는 진공 또는 대기압 분위기에서 수행하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 복수의 홀들을 형성하는 단계 및 상기 돌기 패턴을 형성하는 단계는 상기 기판을 챔버들 내로 연속적으로 이동하여 연속적으로 수행하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 복수의 홀들을 형성하는 단계 및 상기 돌기 패턴을 형성하는 단계는 인-시츄로 연속적으로 수행하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 돌기 패턴을 형성하는 단계 후, 상기 폴리머층을 제거하는 단계를 더 포함하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
7 7
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판은 무기물 표면부를 포함하고, 상기 돌기 패턴은 상기 무기물 표면부에 형성하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
8 8
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 돌기 패턴 상에 소수성 코팅층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
9 9
무기물 표면부를 포함하는 기판 상에 폴리머층을 형성하는 단계;상기 폴리머층을 마스크 없이 블랭킷 상태에서 플라즈마 처리하여, 상기 폴리머층의 분자들의 결합부분 또는 상기 폴리머층의 클러스터들의 결합부분을 우선 식각하여, 상기 기판을 노출하는 나노 패턴을 형성하는 단계; 및상기 폴리머층을 식각 보호층으로 이용하여 상기 기판의 무기물 표면부를 선택적으로 식각하여, 상기 무기물 표면부에 상기 나노 패턴으로부터 전사된 돌기 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 나노 패턴을 형성하는 단계는 마스크 없이 상기 폴리머층 내 중합부 또는 클러스터 연결부가 상기 플라즈마 처리에 의해서 우선 식각되도록 수행하는, 폴리머층을 식각 보호층으로 이용한 돌기 패턴의 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국기계연구원 한국기계연구원 부설 재료연구소 기본사업 플라즈마 응용 하이브리드 공정 개발 (2/3)