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폴리머로 이루어지며 이온빔에 의해 표면이 전처리된 투명모재와,상기 투명모재에 스퍼터링법을 이용하여 ITO, IZO, AZO, GZO 중 어느 하나로 이루어져 증착된 투명전도성박막과,상기 투명전도성박막 외측에 형성된 내굴곡성박막을 포함하여 구성되는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판에 있어서,상기 투명유연기판은,밴딩지름 10㎜에서 내굴곡시험 3,000회 실시시에 5% 이하의 저항 상승량을 갖는 것을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판
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제 1 항에 있어서, 상기 투명전도성박막은 물리적증기장착법(PVD:Physical Vapor Deposition)으로 형성됨을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판
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제 2 항에 있어서, 상기 투명모재는, PC, PET, PES, PEN, PAR, 투명 폴리머 기판 중 어느 하나가 적용됨을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판
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제 3 항에 있어서, 상기 내굴곡성박막은,Ag 나노 와이어가 포함된 전도성 페이스트, 전도성 잉크, 전도성 고분자 중 어느 하나 이상으로 형성됨을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판
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제 4 항에 있어서, 상기 투명전도성박막은 0
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제 5 항에 있어서, 상기 투명전도성박막은 50Ω/□ 내지 10Ω/□의 면저항을 갖는 것을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판
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제 6 항에 있어서, 상기 내굴곡성박막은 0
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명전도성박막과 내굴곡성박막은 각각 1층 이상 형성되며, 다수 층으로 형성시에 교번하여 형성됨을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판
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폴리머로 이루어진 투명모재의 표면을 이온빔으로 전처리하는 전처리단계와,상기 투명모재의 외면에 스퍼터링법을 이용하여 ITO, IZO, AZO, GZO 중 어느 하나로 이루어진 투명전도성박막을 형성하는 투명전도성박막형성단계와,상기 투명전도성박막 외면에 Ag 나노 와이어가 포함된 전도성 페이스트, 전도성 잉크, 전도성 고분자 중 어느 하나 이상으로 형성된 내굴곡성박막을 형성하여 투명유연기판을 완성하는 내굴곡성박막형성단계로 이루어지며,상기 투명유연기판은,밴딩지름 10㎜에서 내굴곡시험 3,000회 실시시에 5% 이하의 저항 상승량을 갖는 것을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판의 제조 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 투명전도성박막형성단계와 내굴곡성박막형성단계는 다수 회 실시됨을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판의 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 전처리단계와 투명전도성박막형성단계는 동일한 진공챔버 내부에서 연속적으로 실시됨을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판의 제조 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 투명전도성박막형성단계에서 350V 이하의 저전압 플라즈마가 적용됨을 특징으로 하는 내굴곡성박막과 투명전도성박막이 구비된 투명유연기판의 제조 방법
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