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패턴이 형성된 박막 시편의 단면 검사 시스템에 있어서,상기 패턴에 이격되어 형성되며 전반사면을 포함하는 전반사 패턴부;빛이 상기 패턴의 단면을 통과하여 상기 전반사 패턴부에 순차적으로 조사되도록 상기 박막 시편의 일 측면에 위치하는 광원; 및상기 전반사 패턴부에서 반사된 빛을 감지할 수 있도록 상기 박막 시편의 상부 또는 하부에 위치하는 검사부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템
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제1항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n2/n1)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템
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3
제1항에 있어서,상기 패턴 및 상기 전반사면 사이에 광학 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템
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4
제3항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n1/m)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되며, 상기 광학 부재는 m＞n1을 만족하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템
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5
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광원 및 상기 전반사면 사이에 형성되며, 상기 패턴의 단면 형상을 선명하게 하는 초점조절부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템
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6
제5항에 있어서,상기 초점조절부재는 상기 패턴 및 상기 전반사면 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템
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7
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 패턴의 단면은 종단면 또는 횡단면인 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 시스템
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8
패턴이 형성된 박막 시편에 이격하여 전반사 패턴부를 형성하는 전반사 패턴 형성단계;광원으로부터 나온 빛이 상기 패턴의 단면에 입사되는 광 조사단계;상기 빛이 상기 패턴의 단면을 투과하여 상기 전반사 패턴부의 전반사면에 입사되는 단면 투과단계;상기 전반사면에 입사된 빛이 전반사를 일으키는 전반사 단계;상기 전반사면에서 전반사 된 빛이 검사부를 향하여 입사되며, 상기 검사부를 향하여 입사된 빛을 감지하는 광 감지단계; 및상기 검사부가 신호를 보내고 출력 수단에 의하여 단면 형상을 출력하는 출력 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 방법
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9
제8항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n2/n1)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 방법
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10
제8항에 있어서,상기 패턴 및 상기 전반사면 사이에 광학 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 방법
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11
제10항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n1/m)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되며, 상기 광학 부재는 m＞n1을 만족하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 방법
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12
제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광원 및 상기 전반사면 사이에 형성되며, 상기 패턴의 단면 형상을 선명하게 하는 초점조절부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 방법
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13
제12항에 있어서,상기 초점조절부재는 상기 패턴 및 상기 전반사면 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 방법
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14
제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 패턴의 단면은 종단면 또는 횡단면인 것을 특징으로 하는 전반사 패턴을 이용한 단면 검사 방법
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15
패턴이 형성된 박막 시편의 단면 검사 시스템에 있어서,상기 패턴의 복제된 패턴 및 상기 복제된 패턴에 이격되어 형성된 전반사면을 포함하는 레플리카 몰드; 빛이 상기 복제된 패턴의 단면을 통과하여 상기 전반사면에 순차적으로 조사되도록 상기 레플리카 몰드의 일 측면에 위치하는 광원; 및상기 전반사면에서 반사된 빛을 감지할 수 있도록 상기 레플리카 몰드의 상부 또는 하부에 위치하는 검사부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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16
제15항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n2/n1)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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17
제15항에 있어서,상기 복제된 패턴 및 상기 전반사면 사이에 광학 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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18
제17항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n1/m)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되며, 상기 광학 부재는 m＞n1을 만족하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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19
제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광원 및 상기 전반사면 사이에 형성되며, 상기 패턴의 단면 형상을 선명하게 하는 초점조절부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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20
제19항에 있어서,상기 초점조절부재는 상기 패턴 및 상기 전반사면 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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21
제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복제된 패턴의 단면은 종단면 또는 횡단면인 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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22
제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 레플리카 몰드는 광 투과성 물질인 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 시스템
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패턴이 형성된 박막 시편의 레플리카를 제조하는 레플리카 몰드 제조단계;광원으로부터 나온 빛이 상기 레플리카 몰드의 복제된 패턴의 단면에 입사되는 광 조사단계;상기 빛이 복제된 패턴의 단면을 투과하여 전반사면에 입사되는 단면 투과단계;상기 전반사면에 입사된 빛이 전반사를 일으키는 전반사 단계;상기 전반사면에서 전반사 된 빛이 검사부를 향하여 입사되며, 상기 검사부를 향하여 입사된 빛을 감지하는 광 감지단계; 및상기 검사부가 신호를 보내고 출력 수단에 의하여 단면 형상을 출력하는 출력 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 방법
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제23항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n2/n1)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 방법
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제23항에 있어서,상기 복제된 패턴 및 상기 전반사면 사이에 광학 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 방법
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제24항에 있어서,상기 전반사면은 arcsin(n1/m)＜θ를 만족하는 a를 갖도록 형성되며, 상기 광학 부재는 m＞n1을 만족하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 방법
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제23항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광원 및 상기 전반사면 사이에 형성되며, 상기 패턴의 단면 형상을 선명하게 하는 초점조절부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 방법
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제27항에 있어서,상기 초점조절부재는 상기 패턴 및 상기 전반사면 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 방법
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제23항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복제된 패턴의 단면은 종단면 또는 횡단면인 것을 특징으로 하는 레플리카 몰드를 이용한 단면 검사 방법
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