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그래핀 패턴 형성방법 및 이를 이용하는 전계효과 트랜지스터 제작방법

  • 기술번호 : KST2015129387
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 그래핀 패턴 형성방법에 관한 것이며, 본 발명의 그래핀 패턴 형성방법은 기판 상에 폴리머 소재의 연성의 지지층을 적층하는 지지층 적층단계; 상기 연성의 지지층 상에 그래핀층을 적층하는 그래핀층 적층단계; 복수개의 나노패턴이 반복적으로 형성된 스탬프를 상기 그래핀에 접촉한 상태에서, 상기 나노패턴과 접촉한 영역의 지지층이 함몰되어 단차를 형성하도록 고온, 고압환경에서 상기 스탬프를 가압하는 가압단계; 상기 그래핀 패턴으로부터 상기 스탬프를 접촉해제하는 해제단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.따라서, 본 발명에 의하면, 물리적인 가공을 통하여 나노 스케일의 그래핀 패턴을 용이하게 제작할 수 있는 그래핀 패턴 형성방법이 제공된다.
Int. CL H01L 29/78 (2006.01) H01L 21/336 (2006.01)
CPC H01L 29/1606(2013.01) H01L 29/1606(2013.01)
출원번호/일자 1020120075652 (2012.07.11)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1228992-0000 (2013.01.28)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20130201) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.11)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이지혜 대한민국 대전 유성구
2 이원석 대한민국 인천 부평구
3 최준혁 대한민국 대전 유성구
4 최대근 대한민국 대전 유성구
5 정주연 대한민국 대전 유성구
6 정준호 대한민국 대전광역시 유성구
7 이응숙 대한민국 경남 창원시 마산회원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2012-0555110-93
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0656058-07
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.08.20 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.09.04 수리 (Accepted) 9-1-2012-0070251-88
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.09.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0529742-19
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.11.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0910949-54
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0910924-13
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.12.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0739528-70
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-0005977-84
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.01.03 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0005982-13
11 등록결정서
Decision to Grant Registration
2013.01.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0029891-54
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 폴리머 소재의 연성의 지지층을 적층하는 지지층 적층단계;상기 연성의 지지층 상에 그래핀층을 적층하는 그래핀층 적층단계;복수개의 나노패턴이 반복적으로 형성된 스탬프를 상기 그래핀에 접촉한 상태에서, 상기 나노패턴과 접촉한 영역의 지지층이 함몰되어 단차를 형성하여 그래핀 패턴을 형성하도록 고온, 고압환경에서 상기 스탬프를 가압하는 가압단계;상기 그래핀 패턴으로부터 상기 스탬프를 접촉해제하는 해제단계;상기 그래핀 패턴의 적어도 일부의 상측에 절연층을 적층하는 절연층 적층단계;노출된 그래핀 패턴에 소스전극, 드레인 전극을 형성하고, 상기 절연층 상에 게이트 전극을 형성하는 전극 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계효과 트랜지스터 제작방법
2 2
기판 상에 폴리머 소재의 연성의 지지층을 적층하는 지지층 적층단계;상기 연성의 지지층 상에 그래핀층을 적층하는 그래핀층 적층단계;복수개의 나노패턴이 반복적으로 형성된 스탬프를 상기 그래핀에 접촉한 상태에서, 상기 나노패턴과 접촉한 영역의 지지층이 함몰되어 단차를 형성하여 그래핀 패턴을 형성하도록 고온, 고압환경에서 상기 스탬프를 가압하는 가압단계;상기 그래핀 패턴으로부터 상기 스탬프를 접촉해제하는 해제단계;절연층이 적층된 베이스 상에 상기 그래핀 패턴을 전사하는 전사단계;상기 그래핀 패턴 상에 소스 전극, 드레인 전극을 형성하고, 상기 베이스 하면에 게이트 전극을 형성하는 전극 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계효과 트랜지스터 제작방법
3 3
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 스탬프는 상기 지지층보다 강성이 큰 소재로 마련되는 것을 특징으로 하는 전계효과 트랜지스터 제작방법
4 4
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 그래핀층과 접촉하는 상기 스탬프의 면에는 점착방지 처리가 되는 것을 특징으로 하는 전계효과 트랜지스터 제작방법
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 가압단계는 상기 지지층 소재의 용융점 이하의 온도 조건에서 진행되는 것을 특징으로 하는 전계효과 트랜지스터 제작방법
6 6
제1항 또는 제2항에 있어서,상기 가압단계는 상기 지지층 소재의 압축 파괴 강도 이상의 압력이 가해지는 것을 특징으로 하는 전계효과 트랜지스터 제작방법
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11 11
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국기계연구원 교과부-국가연구개발사업(II) 필러층을 이용한 1차원 나노구조체의 병렬 접합기술 개발(1/6) (4/6)
2 교육과학기술부 한국기계연구원 교과부-국가연구개발사업(II) 다층 대면적 멀티스케일 플라즈모닉스 나노구조 공정기술 개발 (1/2)