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내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하며 일측에 기체 주입구와 반대편 일측에 기체 배출구를 형성하는 관형의 유전 지지체;상기 유전 지지체에 설치되며 전원부와 연결되는 구동 전극;상기 구동 전극과 이격 배치되고, 상기 구동 전극과의 전압 차에 의해 플라즈마 방전을 유도하여 플라즈마 젯을 생성하는 접지 전극; 및상기 유전 지지체의 내부에 설치되며, 상기 유전 지지체의 내경보다 작은 복수의 개구부를 구비한 다공성 구조로 이루어져 복수의 개구부를 통해 플라즈마 젯을 통과시켜 플라즈마 젯의 유동을 균일하게 분배하는 유동 분배기를 포함하는 대기압 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 유동 분배기는 유전체로 제작되는 대기압 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 유동 분배기는 표면에 부착된 촉매층을 더 포함하는 대기압 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 유전 지지체에 설치되며 상기 촉매층의 온도를 제어하기 위한 히터를 더 포함하는 대기압 플라즈마 반응기
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5
제2항에 있어서,상기 유동 분배기는 벌집 모양의 벽체를 구비한 허니컴 구조로 이루어지고, 모양과 크기가 동일한 복수의 개구부를 일정 간격으로 배치하는 대기압 플라즈마 반응기
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6
제2항에 있어서,상기 유동 분배기는 복수의 유전체 비드를 포함하며,상기 복수의 유전체 비드는 일체로 부착되거나 다공성 지지체로 둘러싸이는 대기압 플라즈마 반응기
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7
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 유전 지지체 상에서 상기 구동 전극과 상기 기체 배출구 사이에 위치하고,상기 유동 분배기는 상기 기체 배출구에 설치되는 대기압 플라즈마 반응기
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제7항에 있어서,상기 구동 전극과 상기 접지 전극은 일정 폭을 가지며 상기 유전 지지체의 외면을 둘러싸도록 형성되는 대기압 플라즈마 반응기
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9
제7항에 있어서,상기 접지 전극은 서로간 거리를 두고 복수개로 분리 배치되는 대기압 플라즈마 반응기
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10
제7항에 있어서,상기 구동 전극은 막대형으로 형성되고 상기 기체 주입구를 관통하면서 상기 유전 지지체의 일측에 설치되며,상기 접지 전극은 상기 유전 지지체의 외면을 둘러싸는 고리 모양으로 형성되는 대기압 플라즈마 반응기
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11
제7항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 기체 주입구를 관통하면서 상기 유전 지지체의 일측에 설치된 막대형 전극부와, 상기 막대형 전극부의 일단에 고정되며 상기 유전 지지체의 내측에 위치하는 타공 전극판을 포함하고,상기 접지 전극은 상기 유전 지지체의 외면을 둘러싸는 고리 모양으로 형성되는 대기압 플라즈마 반응기
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12
제7항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 유전 지지체보다 작은 크기로 형성되고, 상기 기체 주입구의 중앙에서 상기 유전 지지체와 거리를 두고 상기 유전 지지체와 나란하게 배치되는 대기압 플라즈마 반응기
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13
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 접지 전극은 표면 처리가 이루어지는 대상인 시편에 부착되는 대기압 플라즈마 반응기
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14
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유동 분배기는 상기 유전 지지체의 내측에 위치하고,상기 구동 전극과 상기 접지 전극은 상기 유동 분배기와 중첩되도록 상기 유전 지지체의 외측에 설치되는 대기압 플라즈마 반응기
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