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고이온전도도를 갖는 고체 전해질막, 그 제조 방법 및 그를 이용한 전고체 이차전지

  • 기술번호 : KST2015129424
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 고이온전도도를 갖는 신규한 구조의 고체 전해질막, 그 제조 방법 및 이를 이용한 전고체 이차전지에 대하여 개시한다.본 발명에 따른 고체 전해질막은 양극층과 음극층 사이에 개재되는 고체 전해질막으로서, 입자 크기가 최소 1㎛ 이상인 복수의 리튬이온통과 입자; 및 적어도 상기 복수의 리튬이온통과 입자들 사이에 형성된 전자장벽층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01B 1/08 (2006.01) H01M 10/05 (2010.01) H01M 10/0562 (2010.01)
CPC H01M 10/0562(2013.01) H01M 10/0562(2013.01) H01M 10/0562(2013.01) H01M 10/0562(2013.01)
출원번호/일자 1020120068812 (2012.06.26)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1394128-0000 (2014.05.07)
공개번호/일자 10-2014-0005394 (2014.01.15) 문서열기
공고번호/일자 (20140515) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.26)
심사청구항수 21

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤운하 대한민국 * 경남 창원시 성산구
2 최종진 대한민국 부산 해운대구
3 류정호 대한민국 경남 창원시 성산구
4 김종우 대한민국 경남 창원시 성산구
5 최준환 대한민국 경남 창원시 성산구
6 박동수 대한민국 경남 창원시 성산구
7 안철우 대한민국 경남 창원시 성산구
8 한병동 대한민국 경남 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2012-0510692-44
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.05.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.06.05 수리 (Accepted) 9-1-2013-0043831-61
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.08.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0547452-30
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0904138-92
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-1015269-80
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2013-1126569-42
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.12.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1126570-99
9 등록결정서
Decision to grant
2014.04.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0256843-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
양극층과 음극층 사이에 개재되는 고체 전해질막으로서,Li3xLa2/(3-x)TiO3(0003c#X≤2) 또는 Li7La3Zr2O12 중 선택되는 산화물로 형성되며, 입자 크기가 최소 1㎛ 이상인 복수의 리튬이온통과 입자; 및적어도 상기 복수의 리튬이온통과 입자들 사이에, Li3xLa2/(3-x)TiO3(0003c#X≤2) 또는 Li7La3Zr2O12 중 선택되는 산화물로 형성된 전자장벽층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자의 크기는1㎛ 내지 200㎛인 것을 특징으로 하는 고체 전해질막
5 5
제1항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자의 충진율은[식 1]로 나타내어지며, 1% 내지 95%인 것을 특징으로 하는 고체 전해질막
6 6
제1항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자는상기 Li7La3Zr2O12에 5중량% 이하 함량의 Al2O3을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막
7 7
제1항에 있어서,상기 전자장벽층은상기 Li7La3Zr2O12에 5중량% 이하 함량의 Al2O3을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막
8 8
제1항에 있어서,상기 전자장벽층의 두께는1㎛ 내지 20㎛인 것을 특징으로 하는 고체 전해질막
9 9
(a) Li3xLa2/(3-x)TiO3(0003c#X≤2) 또는 Li7La3Zr2O12 중 선택되는 산화물로 형성되고, 입자 크기가 최소 1㎛ 이상인 복수의 리튬이온통과 입자를 입자 각각의 일부분이 매립되는 형태로 양극층 또는 음극층에 형성하는 단계; 및(b) 적어도 복수의 리튬이온통과 입자들 사이에 Li3xLa2/(3-x)TiO3(0003c#X≤2) 또는 Li7La3Zr2O12 중 선택되는 산화물로 전자장벽층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 (a) 단계는상기 양극층 또는 음극층 상에 상기 복수의 리튬이온통과 입자를 분사(Spraying)하는 단계와, 분사된 입자를 프레싱(pressing)하는 단계로 수행되는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
11 11
제10항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자의 분사는파우더 도포법 또는 스핀 코팅 방법을 이용하여 실시되는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
12 12
제9항에 있어서,상기 (a) 단계는테이프 캐스팅(tape casting) 방법을 이용하여 실시되는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
13 13
제12항에 있어서,상기 테이프 캐스팅 후,접착용 테이프를 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
14 14
제13항에 있어서,상기 접착용 테이프는 300℃~500℃의 온도에서 열처리되거나 또는 상기 접착용 테이프를 용해시키는 용매로 녹여서 제거되는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
15 15
제9항에 있어서,상기 (a) 단계는에어로졸 증착(aerosol deposition) 방법을 이용하여 상기 복수의 리튬이온통과 입자를 물리적으로 직접 분사 및 매립시켜 수행되는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
16 16
제15항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자는0
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삭제
18 18
삭제
19 19
제9항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자의 크기는1㎛ 내지 200㎛인 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
20 20
제9항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자의 충진율은[식 1]로 나타내어지며, 1% 내지 95%인 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
21 21
제9항에 있어서,상기 전자장벽층은파우더 도포법 또는 스핀 코팅 방법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 고체 전해질막 제조 방법
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양극층, 음극층 및 상기 양극층과 음극층 사이에 개재된 고체 전해질막을 포함하며,상기 고체 전해질막은 입자 크기가 최소 1㎛ 이상인 복수의 리튬이온통과 입자; 및 적어도 상기 복수의 리튬이온통과 입자들 사이에 형성된 전자장벽층;을 포함하되, 상기 리튬이온통과 입자가 Li3xLa2/(3-x)TiO3(0003c#X≤2) 또는 Li7La3Zr2O12 중 선택되는 산화물로 형성되고, 상기 전자장벽층은 Li3xLa2/(3-x)TiO3(0003c#X≤2) 또는 Li7La3Zr2O12 중 선택되는 산화물로 형성되는 것을 특징으로 하는 전고체 이차전지
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삭제
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제22항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자의 충진율은[식 1]으로 나타내어지며, 1% 내지 95%인 것을 특징으로 하는 전고체 이차전지
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제22항에 있어서,상기 리튬이온통과 입자는상기 Li7La3Zr2O12에 5중량% 이하 함량의 Al2O3을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전고체 이차전지
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제22항에 있어서,상기 전자장벽층은상기 Li7La3Zr2O12에 5중량% 이하 함량의 Al2O3을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전고체 이차전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.