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미세 구조물이 형성된 기판의 F-DLC 코팅 방법 및 이 방법에 의해 형성된 미세 구조물이 형성된 기판

  • 기술번호 : KST2015129451
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 미세 구조물이 형성된 기판을 물리증착(PVD: Physical Vapor Deposition) 또는 화학증착(CVD: Chemical Vapor Deposition)에 의해 DLC(Fluorine-doped diamond-like carbon)로 코팅하는 단계;를 포함하며, 상기 코팅하는 단계는, 미세 구조물이 형성된 상기 기판이 위치된 물리적 또는 화학적 기상증착(PVD 또는 CVD) 시스템에, 플루오르(F) 원소가 포함된 가스와 탄소원 가스가 혼합된 혼합 가스를 주입하고, 이온 건이나 플라즈마로 상기 혼합 가스를 분해시킴으로써, DLC 코팅을 하는 것을 특징으로 하는 미세 구조물 DLC 코팅 방법이 개시된다.
Int. CL C23C 26/00 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 14/00 (2006.01)
CPC C23C 26/00(2013.01) C23C 26/00(2013.01) C23C 26/00(2013.01)
출원번호/일자 1020120108889 (2012.09.28)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1546361-0000 (2015.08.17)
공개번호/일자 10-2014-0043592 (2014.04.10) 문서열기
공고번호/일자 (20150828) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.09.28)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임현의 대한민국 대전 서구
2 지승묵 대한민국 대전 서구
3 프리사 인도네시아 대전 유성구
4 김완두 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김동진 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** (역삼동, 신명빌딩 *층)(청우특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0795221-14
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0802689-22
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0802703-85
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.08.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0083763-81
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0092497-79
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0330414-71
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0427731-81
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.06.09 수리 (Accepted) 1-1-2014-0536493-32
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.07.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0635946-68
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.07.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0635945-12
12 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2014.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0567334-54
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-1003678-59
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-1124652-22
15 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-1241376-92
16 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-0062588-76
17 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2015.01.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0020729-37
18 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.02.17 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0168110-29
19 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.02.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0168109-83
20 등록결정서
Decision to grant
2015.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0327151-78
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
기판에 미세 구조물을 형성하는 단계; 및미세 구조물이 형성된 상기 기판을 물리적 기상증착(PVD: Physical Vapor Deposition) 또는 화학적 기상증착(CVD: Chemical Vapor Deposition)에 의해 F-DLC(Fluonated diamond-like carbon)로 코팅하는 단계;를 포함하며,상기 기판은 유리이며,상기 코팅하는 단계는, 미세 구조물이 형성된 상기 기판을 물리적 또는 화학적 기상증착(PVD 또는 CVD) 시스템에 배치시키고, 비활성 기체 분위기에서 미세 구조물이 형성된 상기 기판을 세정하고, 상기 세정을 한 후에 CF4와 탄소원 가스가 혼합된 혼합 가스를 주입하고, 이온 건이나 플라즈마로 상기 혼합 가스를 분해시킴으로써, F-DLC 코팅을 하며,상기 기판에 미세 구조물을 형성하는 단계는,콜로이달 입자 코팅 단계, 미세 구조물 형성 단계, 및 콜로이달 입자 제거 단계를 포함하며, 상기 콜라이달 입자 코팅 단계는, 스핀코팅(spin-coating), 딥코팅(dip-coating), 리프팅업(lifting up), 전기영동 코팅(electrophoretic deposition), 화학적 또는 전기화학적 코팅(chemical or electrochemical deposition), 및 전기분사(electrospray) 중에서 선택되는 것에 의해 콜로이달 입자를 상기 기판에 코팅하는 단계이고,상기 미세 구조물 형성 단계는, CF4, CHF3, C2F6, C3F6, C3F8, C4F10, HF, HBr, SF6, NF3, SiCl4, SiF4, BCl3, CCl4, CClF3, CCl2F2, C2ClF5, O2 중에서 선택된 에칭 가스를 이용한 드라이 에칭에 의해 수행되고, 상기 콜로이달 입자 제거 단계는, O2 플라즈마 처리, Piranha 용액(H2SO4:H2O2) 처리, 묽힌 HF 용액 증기 처리 중에서 선택된 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 구조물이 형성된 기판의 F-DLC 코팅 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 탄소원 가스는 C2H2인 것을 특징으로 하는 미세 구조물이 형성된 기판의 DLC 코팅 방법
3 3
제2항에 있어서,기판 표면에서 미세 구조물을 형성할 영역을 제외한 부분을 마스킹하는 마스킹 단계;를 더 포함하며, 상기 마스킹 단계는, 상기 콜로이달 입자 코팅 단계와 상기 미세 구조물 형성 단계 사이에 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 구조물이 형성된 기판의 DLC 코팅 방법
4 4
삭제
5 5
제3항에 있어서,상기 미세 구조물 형성 단계의 수행결과 산출된 미세 구조물이 형성된 기판에서, 마스크를 제거하는 마스킹 제거 단계;를 더 포함하며,상기 마스킹 제거 단계는, 에탄올, 메탄올, 이소프로필알콜((CH3)2CHOH), 아세톤, 헥산, 트리클로로에탄, 및 트리클로로메탄 중에서 선택되는 것을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 미세 구조물이 형성된 기판의 DLC 코팅 방법
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삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 기계연구원 지경부-국가연구개발사업(II) 청정표면 태양전지 커버유리 가공기술 개발 (1/2)