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금속 기판; 및상기 금속 기판 상에 위치하고, 에어로졸 성막법에 의하여 형성된 촉매층;을 포함하고, 상기 촉매층은, 상기 금속 기판 상에 위치하는 매트릭스층; 및상기 매트릭스층에 담지되어 노출된 촉매 입자들;을 포함하고,상기 매트릭스층은 알루미늄 산화물(Al2O3), 제올라이트(zeolite), 및 티타늄 산화물(TiO2) 중 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 매트릭스층은 폴리머 물질이 제거되어 형성된 기공을 구비하고, 상기 촉매 입자들의 일부는 상기 기공 내에서 노출되도록 위치하고, 상기 촉매층은 연료전지 연료 개질용 또는 수송기기의 배기가스 정화용으로 사용되는, 촉매층 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 촉매층은 상기 금속 기판 상에 직접적으로 위치하는, 촉매층 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 촉매층은 상기 금속 기판의 일면 상에 위치하는, 촉매층 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 촉매층은 상기 금속 기판의 양면 상에 위치하는, 촉매층 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 촉매 입자들은, 니켈(Ni) 계열 촉매 물질, V2O5/TiO2 계열 촉매 물질, 알루미늄 산화물(Al2O3) 분말에 촉매(Pt, Pd, Rh, Ru, Ni 등)가 코팅 또는 혼합된 촉매 물질, 제올라이트(zeolite) 계열 촉매 물질, Pt, Pd, Rh, Ru 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 촉매층 코팅 기판
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제 1 항에 있어서,상기 금속 기판과 상기 촉매층 사이에 개재되어 위치하고, 상기 금속 기판과 상기 촉매층 사이의 접착력을 증가시키는 하지층;을 더 포함하는, 촉매층 코팅 기판
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제 10 항에 있어서,상기 하지층은, Al2O3계 물질, TiO2계 물질, 제올라이트계 물질, SiO2계 물질, ZrO2계 물질, CeO2계 물질 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 촉매층 코팅 기판
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제 1 항, 제 4 항 내지 제 6 항, 제8항, 제10항, 및 제 11 항 중 어느 한 항의 촉매층 코팅 기판을 포함하는 촉매 구조체
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금속 기판을 제공하는 단계; 및상기 금속 기판의 적어도 일면 상에 에어로졸 성막법을 이용하여, 세라믹 물질과 촉매 입자들을 함께 분사하여 촉매층을 형성하는 단계;를 포함하며,상기 촉매층을 형성하는 단계는,상기 촉매층 내에 상기 세라믹 물질과 상기 촉매 입자들과 함께 폴리머 물질을 분사하는 단계; 및 상기 폴리머 물질을 제거하여 상기 촉매층 내에 기공을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 촉매층은, 상기 금속 기판 상에 위치하는 매트릭스층; 및상기 매트릭스층에 담지되어 노출된 촉매 입자들;을 포함하고,상기 매트릭스층은 알루미늄 산화물(Al2O3), 제올라이트(zeolite), 및 티타늄 산화물(TiO2) 중 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 매트릭스층은 상기 폴리머 물질이 제거되어 형성된 상기 기공을 구비하고, 상기 촉매 입자들의 일부는 상기 기공 내에서 노출되도록 위치하고, 상기 촉매층은 연료전지 연료 개질용 또는 수송기기의 배기가스 정화용으로 사용되는 것인, 촉매층 코팅 기판의 제조 방법
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제 13 항에 있어서,상기 촉매층을 형성하는 단계는,상기 금속 기판 상에 직접적으로 상기 촉매층을 형성하는, 촉매층 코팅 기판의 제조 방법
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