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기판 상부에 탄소화촉매를 공급하여 탄소화촉매층을 형성시키는 단계(단계 1);플러렌 유도체를 용해시킨 플러렌 유도체 용액을 제조하는 단계(단계 2);상기 단계 1에서 형성된 탄소화촉매층 상부에 단계 2에서 제조된 플러렌 유도체 용액을 적층하는 단계(단계 3);및상기 단계 3에서 얻어진 기판/탄소화촉매층/플러렌 유도체 용액층이 순차적으로 적층된 적층체를 열처리하는 단계(단계 4)를 포함하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 기판은 유리, 실리콘, 실리카 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소화촉매는 니켈, 코발트, 철, 백금, 금, 알루미늄, 크롬, 구리, 마그네슘, 망간, 몰리브덴, 로듐, 실리콘, 탄탈륨, 티타늄, 텅스텐, 우라늄, 바나듐 및 지르코늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 탄소화촉매는 니켈인 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소화촉매층은 스퍼터링 방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 탄소화촉매층은 100 - 300 ㎚의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 플러렌 유도체 용액은 플러렌 유도체를 0
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 플러렌 유도체는 PC60BM([6,6]-phenyl-C61-butyric acid methyl ether), Bis-PC60BM, Tris-PC60BM, PC70BM, PC84BM, PC60BB, PC60BO, PC60BD, PC60BC, TPA-PC60BM, MF-PC60BM, IC60MA, IC70MA 및 C60로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 단계 2의 플러렌 유도체는 PC60BM([6,6]-phenyl-C61-butyric acid methyl ether)인 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3의 플러렌 유도체 용액은 스핀코팅법에 의해 적층되는 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 스핀코팅법은 3000 - 5000 rpm 조건에서 30 - 60초 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 3의 플러렌 유도체 용액은 5 - 10 ㎚ 두께로 적층되는 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 4의 열처리는 공기분위기 또는 진공분위기에서 800 - 1000 ℃에서 5 - 30분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 4의 열처리는 20 - 50 ℃/분의 승온속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 플러렌 유도체를 이용한 그래핀 필름의 제조방법
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