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상면에 방전 공간을 가지며, 내부에 상기 방전 공간으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급홀을 갖는 몸체;상기 몸체의 상면에 상기 방전 공간을 노출하도록 구비되는 음극;상기 방전 공간의 내부에 상기 음극과 이격되도록 구비되며, 상기 음극과의 사이에 전기장을 발생시켜 상기 가스를 이온화하는 양극; 및상기 몸체에 고정되어 상기 양극을 지지하며, 상기 몸체와 상기 양극이 전기적으로 연결되는 것을 방지하기 위해 전도성 물질의 코팅을 방지할 수 있는 단차를 갖는 지지부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제1항에 있어서, 상기 단차는 상기 지지부재의 둘레를 따라 연장되어 지지부재를 이격된 상태로 둘러싸는 커버인 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제2항에 있어서, 상기 커버는 상기 지지부재와 일체로 구비되거나 상기 지지부재에 결합되는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제1항에 있어서, 상기 몸체는 상기 지지부재가 고정된 부위의 둘레를 따라 홈을 갖는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제1항에 있어서, 상기 몸체의 내부에 구비되며, 상기 음극 및 상기 양극에 의해 여기된 가스 이온을 상기 몸체의 외부로 이동시키기 위한 자성체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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상면에 방전 공간을 가지며, 내부에 상기 방전 공간으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급홀을 갖는 몸체;상기 몸체의 상면에 상기 방전 공간을 노출하도록 구비되는 음극;상기 방전 공간의 내부에 상기 음극과 이격되도록 구비되며, 상기 음극과의 사이에 전기장을 발생시켜 상기 가스를 이온화하는 양극; 및상기 몸체에 고정되어 상기 양극을 지지하는 지지부재를 포함하고, 상기 몸체와 상기 양극이 전기적으로 연결되는 것을 방지하기 위해 상기 몸체와 상기 지지부재 사이에 전도성 물질의 코팅을 방지할 수 있는 간격을 갖는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제6항에 있어서, 상기 몸체의 내측면에서 상기 지지부재가 고정된 부위의 둘레를 따라 형성되는 홈에 의해 상기 간격이 형성되는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제6항에 있어서, 상기 지지부재에서 상기 몸체에 고정된 부위에 형성되는 단차에 의해 상기 간격이 형성되는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제6항에 있어서, 상기 몸체의 내측면에 상기 지지부재의 둘레를 따라 상기지지부재와 이격되도록 형성되는 돌출부에 의해 상기 간격이 형성되는 이온빔 소스
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