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기판의 표면을 초발수 처리하는 초발수 처리단계;상기 초발수 처리된 상기 기판의 표면에 친수성을 가지는 패턴을 형성하는 친수패터닝단계;상기 친수성을 가지는 패턴과 대응되는 위치에 전도성 용액을 위치시키는 배선단계; 상기 전도성 용액을 건조하여 전도성 배선을 형성하는 단계; 및상기 전도성 배선을 열처리하는 소성단계를 포함하고,상기 친수패터닝단계는 레이저빔을 이용하여 상기 기판의 표면에 형성하고자 하는 친수성을 가지는 패턴을 패터닝하는 것인 배선을 포함하는 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 용액은 전도성 입자를 포함하며, 나노 와이어(Nano-Wire) 및 탄소나노튜브(CNT) 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 배선을 포함하는 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 열처리 온도는 200 내지 300℃인 것을 특징으로 하는 배선을 포함하는 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 입자는 은 나노입자이고, 상기 나노 와이어는 은 나노 와이어이며, 상기 나노 와이어 및 상기 탄소나노튜브는 수백 나노미터 내지 수십 마이크로미터의 크기인 것을 특징으로 하는 배선을 포함하는 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 친수성을 가지는 패턴은 형성하고자 하는 배선 패턴과 대응되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 배선을 포함하는 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 용액은 전도성 입자를 포함하며, 상기 전도성 입자의 분말 사이즈가 200nm인 경우, 상기 전도성 입자의 함량비는 전도성 용액 100wt% 대비 50wt% 이상, 80wt% 미만인 것을 특징으로 하는 배선을 포함하는 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 전도성 용액은 전도성 입자를 포함하며,상기 전도성 입자의 분말 사이즈가 50nm인 경우, 상기 전도성 입자의 함량비는 전도성 용액 100wt% 대비 25wt% 이상, 30wt% 미만인 것을 특징으로 하는 배선을 포함하는 기판의 제조방법
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