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일측에 가스 주입구와 반대편 일측에 가스 배출구를 형성하는 유전 지지체;상기 유전 지지체에 고정되고, 전원부로부터 교류 전압을 인가받는 구동 전극;상기 구동 전극과 상기 가스 배출구 사이에서 상기 유전 지지체에 고정되는 접지 전극; 및상기 유전 지지체의 내부에서 처리 대상물을 지지하는 지지부를 포함하며,상기 유전 지지체의 내부 공간은 직접 플라즈마 처리 영역과 리모트 플라즈마 처리 영역을 포함하고,상기 지지부는 상기 직접 플라즈마 처리 영역과 상기 리모트 플라즈마 처리 영역 중 어느 한 영역에 위치하는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 직접 플라즈마 처리 영역은 상기 가스 주입구를 향한 상기 구동 전극의 일단에서부터 상기 가스 배출구를 향한 상기 접지 전극의 일단에 이르는 영역이고,상기 리모트 플라즈마 처리 영역은 상기 접지 전극과 상기 가스 배출구 사이의 영역인 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은,상기 구동 전극을 향해 위치하는 제1 접지 전극; 및상기 제1 접지 전극과 상기 가스 배출구 사이에 위치하는 제2 접지 전극을 포함하는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제5항에 있어서,상기 직접 플라즈마 처리 영역은 상기 가스 주입구를 향한 상기 구동 전극의 일단에서부터 상기 가스 배출구를 향한 상기 제1 접지 전극의 일단에 이르는 영역이고,상기 리모트 플라즈마 처리 영역은 상기 제1 접지 전극과 상기 가스 배출구 사이의 영역인 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제1항, 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지부는 상기 처리 대상물을 승온시키는 가열원을 포함하는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제1항, 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지부와 상기 처리 대상물은 접지되거나 바이어스 전압을 인가받는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제1항, 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지부는 상기 유전 지지체의 내부에 위치하는 한 쌍의 제1 롤러와, 상기 유전 지지체의 외부에 위치하는 한 쌍의 제2 롤러를 포함하며,상기 처리 대상물은 롤-투-롤 이송이 가능한 필름 형태로 구성되는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제1항, 및 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 처리 대상물은 원형 또는 사각형이고,상기 유전 지지체는 상기 처리 대상물의 형상에 대응하여 원통 또는 사각 덕트 모양으로 형성되는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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일측에 가스 주입구와 반대편 일측에 가스 배출구를 형성하는 유전 지지체;상기 유전 지지체에 고정되고, 전원부로부터 교류 전압을 인가받는 구동 전극;상기 구동 전극과 상기 가스 배출구 사이에서 상기 유전 지지체에 고정되는 접지 전극; 및상기 유전 지지체의 내부에서 처리 대상물을 지지하며, 이송 구동부와 결합되어 상기 유전 지지체의 축 방향을 따라 위치가 조절되는 지지부를 포함하고,상기 유전 지지체의 내부 공간은 직접 플라즈마 처리 영역과 리모트 플라즈마 처리 영역을 포함하며,상기 지지부는 플라즈마 처리 과정에서 상기 직접 플라즈마 처리 영역과 상기 리모트 플라즈마 처리 영역 중 어느 한 영역에 위치하거나 어느 한 영역에서 다른 한 영역으로 이송되는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제11항에 있어서,상기 지지부는 상기 플라즈마 처리 과정에서 상기 직접 플라즈마 처리 영역과 상기 리모트 플라즈마 처리 영역 중 어느 한 영역 내에서 위치가 조절되는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제11항에 있어서,상기 직접 플라즈마 처리 영역은 상기 가스 주입구를 향한 상기 구동 전극의 일단에서부터 상기 가스 배출구를 향한 상기 접지 전극의 일단에 이르는 영역이고,상기 리모트 플라즈마 처리 영역은 상기 접지 전극과 상기 가스 배출구 사이의 영역인 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제11항에 있어서,상기 접지 전극은,상기 구동 전극을 향해 위치하는 제1 접지 전극; 및상기 제1 접지 전극과 상기 가스 배출구 사이에 위치하는 제2 접지 전극을 포함하는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제15항에 있어서,상기 직접 플라즈마 처리 영역은 상기 가스 주입구를 향한 상기 구동 전극의 일단에서부터 상기 가스 배출구를 향한 상기 제1 접지 전극의 일단에 이르는 영역이고,상기 리모트 플라즈마 처리 영역은 상기 제1 접지 전극과 상기 가스 배출구 사이의 영역인 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제11항, 제12항, 및 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지부는 상기 처리 대상물을 승온시키는 가열원을 포함하는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제11항, 제12항, 및 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 지지부와 상기 처리 대상물은 접지되거나 바이어스 전압을 인가받는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제11항, 제12항, 및 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 이송 구동부는 상기 유전 지지체의 외부에 위치하며, 유압 실린더와 구동 모터 중 어느 하나를 포함하는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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제11항, 제12항, 및 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,상기 처리 대상물은 원형 또는 사각형이고,상기 유전 지지체는 상기 처리 대상물의 형상에 대응하여 원통 또는 사각 덕트 모양으로 형성되는 축전 결합식 플라즈마 발생장치
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