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지르코닐 2-에틸헥사노에이트(Zirconyl 2-ethylhexanoate) 및 지르코늄 카복시에틸 아크릴레이트(Zirconium carboxyethyl acrylate)로 이루어진 산화지르코늄 전구체, 개시제, 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 산화박막 패턴형성용 코팅제
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제 1 항에 있어서, 상기 개시제는 광개시제 또는 열개시제인 것을 특징으로 하는 금속 산화박막 패턴형성용 코팅제
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제 2 항에 있어서, 상기 광개시제는 벤지온알킬에테르(Benzionalkylether), 벤조페논(Benzophenone), 벤질디메틸카탈(Benzyl dimethylkatal), 하이드록시사이클로헥실 페닐아세톤(Hydroxycyclohexyl phenylacetone), 클로로아세토페논(Chloroacetophenone), 1,1-디클로로 아세토페논(1,1-Dichloro acetophenone), 디에톡시 아세토페논(Diethoxy acetophenone), 하이드록시아세토페논 (Hydroxy Acetophenone), 2-클로로티옥산톤(2-Chorothioxanthone), 2-에틸안트라튀논[2-ETAQ(2-EthylAnthraquinone)], 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤(1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone), 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논(2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone), 2-하이드록시-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-메틸-1-프로파논(2-Hydroxy-1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-methyl-1-propanone), 및 메틸벤조일포메이트(methylbenzoylformate)으로 이루어지는 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 광개시제로 이루어진 것을 특징으로 하는 금속 산화박막 패턴형성용 코팅제
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제 2 항에 있어서, 상기 열개시제는 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산) [4,4′-Azobis(4-cyanovaleric acid)], 1,1'-아조비스(사이클로헥산카보니트릴) [(1,1′-Azobis(cyclohexanecarbonitrile)], 2
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제 1항에 있어서, 상기 용매는 에탄올(ethanol), 메탄올(methanol), 톨루엔(toluene), 이소프로필알코올(isopropyl alcohol), 프로필렌 글리콘 모노메틸에테르 아세테이트(Propylene Glycol Monomethylether Acetate), 메틸이소부틸케톤(methylisobutylketone), 테트라하이드로푸란(tetrahydrofuran), 헥산(hexane), 4-메틸-2-펜타논(4-methyl-2-pentanone), 케톤(ketone), 메틸에틸 케톤(methylethylketone), 프로판올(prophanol), 부탄올(butanol), 펜탄올(pentanol), 헥산올(hexanol), 디메틸설폭사이드(Dimethylsulfoxide), 디메틸포름아마이드(Dimethylformamide), N-메틸피롤리돈(n-methyl pyrroolidone), 아세톤(acetone), 아세토니트릴(acetonitrile), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran, 테칸(tecan), 노난(nonane), 옥탄(octane), 헵탄(heptane) 및 펜탄(pentane)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 용매로 이루어지는 것을 특징으로 하는 금속 산화박막 패턴형성용 코팅제
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산화지르코늄 전구체, 개시제 및 용매를 혼합하여 코팅물질을 형성하는 혼합단계;상기 코팅물질을 기판에 코팅하여 코팅층을 형성하는 코팅단계;요철구조를 가지도록 패턴된 몰드로 상기 코팅층을 가압하는 가압단계;상기 가압된 코팅층을 가열하거나 가열함과 동시에 자외선을 조사하여 경화된 금속 산화박막 패턴을 형성하는 패턴형성단계; 및상기 패턴된 몰드를 제거하는 제거단계; 를 포함하고 상기 산화지르코늄 전구체는 지르코닐 2-에틸헥사노에이트(Zirconyl 2-ethylhexanoate) 및 지르코늄 카복시에틸 아크릴레이트(Zirconium carboxyethyl acrylate)의 혼합물인 것을 특징으로 하는 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법
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제 6 항에 있어서, 상기 개시제는 광개시제 또는 열개시제 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법
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제 7 항에 있어서, 상기 광개시제는 벤지온알킬에테르(Benzionalkylether), 벤조페논(Benzophenone), 벤질디메틸카탈(Benzyl dimethylkatal), 하이드록시사이클로헥실 페닐아세톤(Hydroxycyclohexyl phenylacetone), 클로로아세토페논(Chloroacetophenone), 1,1-디클로로 아세토페논(1,1-Dichloro acetophenone), 디에톡시 아세토페논(Diethoxy acetophenone), 하이드록시아세토페논 (Hydroxy Acetophenone), 2-클로로티옥산톤(2-Chorothioxanthone), 2-에틸안트라튀논[2-ETAQ(2-EthylAnthraquinone)], 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤(1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone), 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논(2-Hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone), 2-하이드록시-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-메틸-1-프로파논(2-Hydroxy-1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-methyl-1-propanone), 및 메틸벤조일포메이트(methylbenzoylformate)으로 이루어지는 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 광개시제로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법
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제 7 항에 있어서, 상기 열개시제는 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산) [4,4′-Azobis(4-cyanovaleric acid)], 1,1'-아조비스(사이클로헥산카보니트릴) [(1,1′-Azobis(cyclohexanecarbonitrile)], 2
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제 6항에 있어서, 상기 용매는 에탄올(ethanol), 메탄올(methanol), 톨루엔(toluene), 이소프로필알코올(isopropyl alcohol), 프로필렌 글리콘 모노메틸에테르 아세테이트(Propylene Glycol Monomethylether Acetate), 메틸이소부틸케 톤(methylisobutylketone), 테트라하이드로푸란(tetrahydrofuran), 헥산(hexane),4-메틸-2-펜타논(4-methyl-2-pentanone), 케톤(ketone), 메틸에틸 케톤(methylethylketone), 프로판올(prophanol), 부탄올(butanol), 펜탄올(pentanol), 헥산올(hexanol), 디메틸설폭사이드(Dimethylsulfoxide), 디메틸포름아마이드(Dimethylformamide), N-메틸피롤리돈(n-methyl pyrroolidone), 아세톤(acetone), 아세토니트릴(acetonitrile), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofuran, 테칸(tecan), 노난(nonane), 옥탄(octane), 헵탄(heptane) 및 펜탄(pentane)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 용매로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노임프린트를 이용한 금속 산화박막 패턴 형성방법
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