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요소수를 공급하는 요소수 공급부;상기 요소수 공급부에 연결되고 상기 요소수를 유입하도록 통로를 형성하는 하우징;상기 하우징 내부에서 상기 통로의 양측에 배치되는 가열판; 및상기 통로 반대측에서 상기 가열판의 측면에 배치되어, 플라즈마 방전기체의 공급 또는 플라즈마 반응으로 화염을 형성하여 상기 가열판을 가열하는 플라즈마 반응기를 포함하며,상기 가열판은, 상기 통로의 양측에서 서로 마주하여 배치되는 1쌍의 가열부재를 포함하고,상기 통로의 반대측에서 상기 1쌍의 가열부재와 상기 하우징은, 서로의 사이에 확산공간을 형성하며,상기 하우징은, 상기 통로를 형성하도록 서로 마주하여 배치되고, 상기 1쌍의 가열부재를 구비하여 서로 결합되는 1쌍의 하우징 부재를 포함하며,상기 확산공간은, 상기 요소수 공급부의 반대측에서 개방되는 요소수 분해 장치
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제1항에 있어서,상기 요소수 공급부는,액체 요소수를 분사하는 노즐 및액체 요소수를 흘러내리는 밸브중 하나로 형성되는 포함하는 요소수 분해 장치
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제2항에 있어서,상기 1쌍의 하우징 부재는,상기 1쌍의 가열부재와의 사이에 상기 확산공간을 형성하는 요소수 분해 장치
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제5항에 있어서,상기 1쌍의 하우징 부재는,상기 가열부재의 반대측에서 상기 확산공간에 연결되는 화염공간을 형성하는 챔버 부재를 더 포함하는 요소수 분해 장치
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제6항에 있어서,상기 플라즈마 반응기는상기 챔버 부재에 설치되어 상기 화염공간의 온도를 가열하는 요소수 분해 장치
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요소수 공급부에 연결되고 요소수를 유입하도록 통로를 형성하는 하우징, 상기 하우징 내부에서 상기 통로의 양측에 배치되는 가열판, 및 상기 통로 반대측에서 상기 가열판의 측면에 배치되는 플라즈마 반응기의 플라즈마 반응으로 화염을 형성하여 상기 가열판을 가열하는 요소수 분해 장치; 및상기 요소수 분해 장치가 설치되어 상기 통로와 연결되고, 배기가스를 배출하는 배기가스 라인을 포함하며,상기 가열판은, 상기 통로의 양측에서 서로 마주하여 배치되는 1쌍의 가열부재를 포함하고상기 통로의 반대측에서 상기 1쌍의 가열부재와 상기 하우징은, 서로의 사이에 확산공간을 형성하며,상기 하우징은, 상기 통로를 형성하도록 서로 마주하여 배치되고, 상기 1쌍의 가열부재를 구비하여 서로 결합되는 1쌍의 하우징 부재를 포함하며,상기 확산공간은, 상기 요소수 공급부의 반대측에서 개방되는 배기가스 시스템
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제9항에 있어서,상기 1쌍의 하우징 부재는,상기 1쌍의 가열부재와의 사이에 상기 확산공간을 형성하는 배기가스 시스템
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제10항에 있어서,상기 확산공간은,상기 배기가스 라인에 연결되는 배기가스 시스템
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