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공정 챔버와 진공펌프 또는 스크러버를 연결하는 공정가스관에 설치되어 내측으로 공정가스를 유통시키는 내부 하우징;상기 내부 하우징을 수용하여 상기 공정가스관에 설치되어 상기 내부 하우징의 외측에 수용 공간을 설정하고, 상기 공정가스관과 상기 내부 하우징 사이에 설정되는 통로와 상기 수용 공간을 연결하는 외부 하우징; 및상기 외부 하우징의 일측에 내장되는 전극에 전압을 인가하여 발생되는 플라즈마 반응으로 외부에서 공급되는 기체를 가열하여 상기 수용 공간과 상기 통로를 통하여 상기 공정가스관 내부로 공급하는 가열부를 포함하는 플라즈마 히터
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제1항에 있어서,상기 수용 공간은상기 내부 하우징의 외주면과 상기 외부 하우징의 내주면으로 설정되어,가열된 기체를 수용하여 상기 통로로 공급하는 플라즈마 히터
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제1항에 있어서,상기 내부 하우징은,상기 공정 챔버의 측단에 공정가스의 유입을 안내하는 경사면부를 형성하는 플라즈마 히터
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제1항에 있어서,상기 공정가스관은,상기 내부 하우징의 일측에 연결되는 유입측부, 및상기 유입측부의 반대측에서 상기 내부 하우징의 다른 일측에 상기 통로로 연결되는 배출측부를 포함하는 플라즈마 히터
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제4항에 있어서,상기 외부 하우징은,상기 내부 하우징과 상기 내부 하우징에 인접하는 상기 유입측부의 단부와 상기 배출측부의 단부를 수용하여 덮도록 서로 결합되는 상부 하우징과 하부 하우징을 포함하는 플라즈마 히터
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제1항에 있어서,상기 전극은,상기 내부 하우징의 길이 방향에 교차하는 상기 외부 하우징에서 상기 통로에 인접하여 설치되고 전기적으로 접지되는 제1전극, 및상기 제1전극의 일단과 방전갭을 형성하여 전압이 인가되는 제2전극을 포함하는 플라즈마 히터
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제6항에 있어서,상기 제1전극은,상기 외부 하우징의 길이 방향을 따라 이격되고, 복수의 유체홀들을 형성하여 가열된 기체를 제어하여 통과시키는 복수의 판부를 포함하는 플라즈마 히터
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제7항에 있어서,상기 제2전극은,상기 제1전극의 판부 중앙을 향하는 기체 유입구를 구비하는 플라즈마 히터
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제1항에 있어서,상기 내부 하우징과 상기 공정가스관의 배출측 사이에 설정되는 상기 통로의 끝에 좁아지게 형성되는 노즐을 더 포함하는 플라즈마 히터
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