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외주면 상에 복수의 캐필러리부들을 가지는 도전성 몸체를 포함하는, 회전전극;상기 회전전극과는 이격되며, 상기 회전전극의 원주방향을 따라 서로 이격되어 배열되는, 복수의 판상형 전극들;유연기판을, 상기 회전전극과는 이격되고 상기 복수의 판상형 전극들과는 접하도록, 롤투롤 방식으로 감을 수 있는, 한 쌍의 롤들; 및상기 회전전극의 원주방향을 따라 상기 회전전극과 이격되며 상기 복수의 판상형 전극들 사이에 개재되어 배열되는, 복수의 롤러들;을 포함하고,상기 복수의 롤러들은, 상기 유연기판이 상기 롤러 및 상기 판상형 전극과 접하면서 상기 롤러와 상기 판상형 전극 사이로 이동할 수 있도록, 배치되고,상기 복수의 롤러들 중 서로 인접한 두 개의 롤러들 사이에서는 상기 유연기판이 상기 인접한 두 개의 롤러들 사이에 개재된 상기 판상형 전극과 나란한 방향으로 이동할 수 있도록, 배치됨으로써, 상기 유연 기판은 상기 판상형 전극들과 나란한 방향으로 각각 위치하는 복수의 나란한 영역들로 구획되고,상기 복수의 캐필러리부들은, 선형으로 배치되며, 상기 도전성 몸체의 길이축 방향으로 신장되고, 상기 회전전극에 가해지는 전기장을 상기 캐필러리부의 저면부에 집적하여 캐필러리 방전을 발생시키고, 상기 유연기판과 직접 접촉하는 상기 판상형 전극에 대응하는 상기 회전전극과 상기 유연기판 사이에서만 플라즈마 방전이 국부적으로 발생되고, 상기 플라즈마 방전의 온/오프 제어는 상기 복수의 판상형 전극들에 독립적으로 인가되는 전원, 상기 회전전극의 회전수 및 상기 복수의 캐필러리부들의 수를 변화시켜 조절함으로써, 상기 유연 기판의 상기 복수의 나란한 영역들을 독립적으로 플라즈마 처리하는, 캐필러리부가 구비된 회전전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 회전전극은 상기 복수의 캐필러리부의 저면부를 노출하도록 상기 도전성 몸체의 외주면 상에 배치된 절연성 차폐층을 더 포함하는, 캐필러리부가 구비된 회전전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템
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제 4 항에 있어서,상기 절연성 차폐층은 알루미나(Al2O3), 탄화규소(SiC), 질화규소(Si3N4), 석영(SiO2), 산화마그네슘(MgO) 및 테프론(PTFE) 중 적어도 어느 하나를 포함하는,캐필러리부가 구비된 회전전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 캐필러리부의 저면부 상에 도전층을 더 포함하고,상기 도전층은 상기 저면부보다 이차전자 방출계수가 높은 금속, 합금, 도전성 세라믹, 도전성 탄소체 및 도전성 폴리머 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 캐필러리부가 구비된 회전전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 도전성 몸체는 도전성 금속, 도전성 세라믹, 도전성 탄소체 및 도전성 폴리머 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 캐필러리부가 구비된 회전전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 판상형 전극 및 상기 회전전극이 내부에 안치되는 챔버를 더 포함하고, 상기 챔버는 반응기체의 공급구 및 반응기체의 배출구를 포함하는, 캐필러리부가 구비된 회전전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템
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외주면 상에 복수의 캐필러리부들을 가지는 도전성 몸체를 포함하는 회전전극 및 상기 회전전극과는 이격되며 상기 회전전극의 원주방향을 따라 서로 이격되어 배열되는 복수의 판상형 전극들을 제공하는 단계; 및한 쌍의 롤들을 이용하여 롤투롤 방식으로, 상기 회전전극과는 이격되고 상기 복수의 판상형 전극들과는 접하면서 유연기판을 제공하는 단계;상기 유연기판 상에 반응기체를 유입하는 단계; 및상기 유연기판과 직접 접촉하는 상기 판상형 전극에 대응하여 상기 상기 회전전극과 상기 유연기판 사이에서만 플라즈마를 발생시켜 상기 반응기체의 화학적 반응을 유도하는 단계;를 포함하고,상기 회전전극의 원주방향을 따라 상기 회전전극과 이격되며 상기 복수의 판상형 전극들 사이에 개재되어 배열되는, 복수의 롤러들을 제공하는 단계;를 더 포함하고,상기 복수의 롤러들은, 상기 유연기판이 상기 롤러 및 상기 판상형 전극과 접하면서 상기 롤러와 상기 판상형 전극 사이로 이동할 수 있도록, 배치되고,상기 복수의 롤러들 중 서로 인접한 두 개의 롤러들 사이에서는 상기 유연기판이 상기 인접한 두 개의 롤러들 사이에 개재된 상기 판상형 전극과 나란한 방향으로 이동할 수 있도록, 배치됨으로써, 상기 유연 기판은 상기 판상형 전극들과 나란한 방향으로 각각 위치하는 복수의 나란한 영역들로 구획되고,상기 복수의 캐필러리부들은, 선형으로 배치되며, 상기 도전성 몸체의 길이축 방향으로 신장되고, 상기 회전전극에 가해지는 전기장을 상기 캐필러리부의 저면부에 집적하여 캐필러리 방전을 발생시키고,상기 유연기판과 직접 접촉하는 상기 판상형 전극에 대응하는 상기 회전전극과 상기 유연기판 사이에서만 플라즈마 방전이 국부적으로 발생되고, 상기 플라즈마 방전의 온/오프 제어는 상기 복수의 판상형 전극들에 독립적으로 인가되는 전원, 상기 회전전극의 회전수 및 상기 복수의 캐필러리부들의 수를 변화시켜 조절함으로써, 상기 유연 기판의 상기 복수의 나란한 영역들을 독립적으로 플라즈마 처리하는, 캐필러리부가 구비된 회전전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 방법
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