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내부로 배출 가스를 통과시키며 촉매 반응을 이용하여 배출 가스에 포함된 유해 기체를 저감시키는 촉매;배출 가스의 진행 방향을 따라 상기 촉매와 제1 공간을 사이에 두고 마주하는 제1 전극; 및상기 촉매의 외주면과 접하여 상기 촉매와 통전되고, 상기 촉매의 둘레 방향을 따라 상기 촉매의 둘레 일부와 접하는 띠 모양으로 형성되는 제2 전극을 포함하며,상기 제1 전극과 상기 제2 전극 중 어느 한 전극은 전원부에 연결되고, 다른 한 전극은 접지되는 플라즈마-촉매 반응기
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제1항에 있어서,상기 전원부는 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 중 어느 한 전극으로 정현파 또는 펄스형 고전압을 인가하여 상기 제1 공간에 플라즈마를 생성하며, 상기 촉매가 활성화된 이후 전압 인가를 중지하는 플라즈마-촉매 반응기
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제1항에 있어서,상기 제1 전극은 복수의 개구부와 메쉬부 중 어느 하나를 포함하여 배출 가스를 통과시키는 플라즈마-촉매 반응기
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제1항에 있어서,상기 촉매와 제2 공간을 사이에 두고 위치하는 제3 전극을 더 포함하며,상기 제3 전극은 상기 제1 전극과 같은 전압을 인가받는 플라즈마-촉매 반응기
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제6항에 있어서,상기 제3 전극은 복수의 개구부와 메쉬부 중 어느 하나를 포함하여 배출 가스를 통과시키는 플라즈마-촉매 반응기
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제1항에 있어서,상기 촉매는 제1 촉매이고,상기 제1 전극과 상기 제1 촉매 사이에 위치하는 제2 촉매를 더 포함하는 플라즈마-촉매 반응기
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제1항에 있어서,상기 촉매는 제1 촉매이고,상기 제1 전극의 외측에서 제2 공간을 사이에 두고 위치하는 제2 촉매와, 제2 촉매의 바깥 표면과 접하며 제2 촉매의 둘레 방향을 따라 위치하는 제4 전극을 더 포함하는 플라즈마-촉매 반응기
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제9항에 있어서,상기 제4 전극은 상기 제2 촉매의 둘레를 한 바퀴 둘러싸는 고리 모양과, 상기 제2 촉매의 둘레 일부와 접하는 띠 모양 중 어느 하나로 형성되는 플라즈마-촉매 반응기
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제9항에 있어서,상기 제4 전극은 상기 제2 전극과 같은 전압을 인가받는 플라즈마-촉매 반응기
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제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 촉매와 상기 제2 촉매는 다른 종류의 촉매로 구성되어 서로 다른 성분의 유해 기체를 처리하는 플라즈마-촉매 반응기
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제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 촉매와 상기 제2 촉매 중 어느 하나는 삼원 촉매이고, 다른 하나는 일산화탄소와 탄화수소 및 질소산화물 중 적어도 하나를 저감시키는 촉매로 구성되는 플라즈마-촉매 반응기
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배출 가스의 흐름 방향을 따라 서로간 거리를 두고 나란히 위치하는 복수의 촉매;상기 복수의 촉매 각각의 외주면과 접하여 상기 촉매와 통전되고, 상기 복수의 촉매 각각의 둘레 방향을 따라 상기 촉매의 둘레 일부와 접하는 띠 모양으로 형성되는 복수의 전극; 및상기 복수의 전극 중 적어도 하나의 전극과 연결되는 전원부를 포함하는 플라즈마-촉매 반응기
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제14항에 있어서,상기 복수의 전극은 배출 가스의 진행 방향을 따라 홀수번째 전극과 짝수번째 전극으로 분류되고,상기 홀수번째 전극과 상기 짝수번째 전극 중 어느 하나는 상기 전원부와 연결되며, 다른 하나는 접지되는 플라즈마-촉매 반응기
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제16항에 있어서,상기 전원부는 상기 홀수번째 전극과 상기 짝수번째 전극 중 어느 하나로 정현파 또는 펄스형 고전압을 인가하여 상기 복수의 촉매 사이 공간으로 플라즈마를 생성하며, 상기 복수의 촉매가 활성화된 이후 전압 인가를 중지하는 플라즈마-촉매 반응기
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제1항 또는 제14항에 있어서,상기 촉매는 담체와, 담체 표면에 부착된 전도성 촉매층을 포함하며,상기 담체는 알루미나(Al2O3), 카본, 제올라이트, 실리카(SiO2), 및 실리콘 카바이드(SiC)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하고,상기 전도성 촉매층은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 레늄(Re), 및 오스뮴(Os)으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 플라즈마-촉매 반응기
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