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일 방향으로 신장되고 전압이 인가되는 전극;절연부재를 개재하여 상기 전극을 수용하고 상기 전극과의 사이에 방전기체를 공급하는 제1통로를 형성하며, 1차로 접지되어 생성되는 아크를 방전갭을 형성하는 제1토출구로 토출하는 제1하우징; 및상기 제1하우징의 선단을 수용하여 처리기체를 공급하는 제2통로를 형성하고, 2차로 접지되어 상기 아크를 연장하여 상기 처리기체에 포함된 처리 대상물질을 연소시킨 아크 화염을 제2토출구로 토출하는 제2하우징을 포함하며,상기 제1하우징은,상기 제1통로를 설정하여 상기 방전기체를 공급하는 내부 관체, 및상기 제1토출구를 형성하여 상기 제1토출구에 상기 제1통로를 연결하는 중간 부재를 포함하는 플라즈마 토치
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제1항에 있어서,상기 전극은,내부에 제1냉각 챔버를 형성하고,상기 절연부재를 관통하여 상기 제1냉각 챔버에 2중으로 결합되어 상기 제1냉각 챔버에 냉각수를 순환시키는 내부관과 외부관을 더 포함하는 플라즈마 토치
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제1항에 있어서,상기 제1하우징은상기 내부 관체 및 상기 중간 부재와의 사이에 제2냉각 챔버를 설정하는 외부 관체를 더 포함하며,상기 내부 관체는 상기 절연부재에 결합되고상기 중간 부재는 상기 내부 관체의 선단에 연결되며,상기 외부 관체는 상기 내부 관체에 결합되고 상기 중간 부재에 연결되는 플라즈마 토치
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제3항에 있어서,상기 외부 관체는,상기 내부 관체에 결합되고 상기 제2냉각 챔버에 냉각수를 순환시키는 공급구와 배출구를 구비하는 제1관체, 및상기 제1관체에 결합되고 상기 중간 부재에 연결되어 상기 제2냉각 챔버를 설정하는 제2관체를 포함하는 플라즈마 토치
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제3항에 있어서,상기 제2하우징은,상기 제1하우징에 결합되고 상기 처리기체를 상기 제2통로로 유입하는 유입구를 구비하며,상기 제1하우징을 수용하고 상기 외부 관체의 단부에서 상기 제2통로를 좁아지게 형성하여 상기 제2토출구에 연결하는 목부를 포함하는 플라즈마 토치
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제5항에 있어서,상기 제2하우징은,스팀을 공급하는 스팀 공급구에 연결되어 상기 목부의 시작 지점에 스팀을 분사하는 스팀 분사구를 구비하는 노즐을 더 포함하는 플라즈마 토치
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제6항에 있어서,상기 제2하우징은,상기 제1토출구로부터 토출되는 아크를 회전시키는 나선홈을 내주면에 구비하는 회전 유도부를 더 포함하는 플라즈마 토치
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제7항에 있어서,상기 제2하우징은,상기 외부 관체에 결합되고 상기 유입구를 구비하는 본체, 및상기 본체의 끝에 상기 노즐과 상기 회전 유도부를 배치하고, 상기 회전 유도부를 지지하여 상기 본체에 결합되는 결합체를 포함하는 플라즈마 토치
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