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나노급 금속, 탄화물 또는 질화물 분말의 산화를 방지하거나 산소와의 반응을 방지하기 위한 분말 처리방법

  • 기술번호 : KST2015129819
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법에 대한 것으로서, 보다 구체적으로, 저산소 분위기(low oxygen atmosphere) 및 저온(low temperature) 하에서 나노 분말의 표면에 산화 피막을 형성시키는 단계를 포함하는 나노 분말의 산화방지 처리방법 또는 산소와의 접촉을 차단하기 위해 나노 분말을 유기 용제에 분산시키는 단계를 포함하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법에 대한 것으로서, 본 발명에 따르면 본 발명에 따른 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법에 의하면, 종래 기술에 비해 보다 간단한 방법으로 나노 분말의 표면에 대해 우수한 산화방지 효과 또는 산소와의 반응방지 효과를 부여할 수 있으며, 특히, 본 발명에 따라 제조된 표면에 산화피막이 형성된 나노 분말은 고온에서의 내산화성이 크게 향상될 뿐만 아니라, 공기 중에서 장시간 보관 및 유지할 경우에도 안정된 내산화성을 나타낸다.
Int. CL C23C 26/00 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/06 (2006.01)
CPC C23C 22/02(2013.01) C23C 22/02(2013.01) C23C 22/02(2013.01)
출원번호/일자 1020130110149 (2013.09.13)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0030872 (2015.03.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.09.13)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 하국현 대한민국 부산 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김정수 대한민국 서울시 송파구 올림픽로 ***(방이동) *층(이수국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-0838453-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.04.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.05.13 수리 (Accepted) 9-1-2014-0039356-70
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.09.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0628256-55
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.11.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1102386-77
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.11.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-1102385-21
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0074819-01
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.03.09 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0227722-79
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2015-0227721-23
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.04.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0230836-93
11 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner
2015.06.30 수리 (Accepted) 7-8-2015-0016860-71
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0932579-64
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0200972-79
14 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0298191-46
15 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2017-0410389-85
16 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2017.06.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0445553-22
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
저산소 분위기(low oxygen atmosphere) 및 저온(low temperature) 하에서 나노 분말의 표면에 산화 피막을 형성시키는 단계를 포함하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
2 2
제1항에 있어서, 나노 분말의 표면에 산화 피막을 형성시키는 단계는 산소 1 내지 5 vol% 및 불활성 가스 또는 비산화성 가스 잔부로 이루어진 혼합 가스에 의해 조성된 저산소 분위기에서 수행되는 것을 특징으로 하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
3 3
제1항에 있어서, 나노 분말의 표면에 산화 피막을 형성시키는 단계는 상온 내지 200℃의 저온에서 수행되는 것을 특징으로 하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 나노 분말은 탄화텅스텐(WC), 탄화티타늄(TiC) 또는 탄화규소(SiC)인 탄화물, 질화규소(SiN) 또는 질화알루미늄(AlN)인 질화물, 또는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 코발트(Co), 니켈(Ni), 철(Fe), 크롬(Cr) 또는 SUS인 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
5 5
산소와의 접촉을 차단하기 위해 나노 분말을 유기 용제에 분산시키는 단계를 포함하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
6 6
제5항에 있어서, 나노 분말을 유기 용제에 분산시키는 단계는 나노 분말을 액상 유기 용제 내에 침지시켜 수행되는 것을 특징으로 하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
7 7
제5항에 있어서, 나노 분말을 유기 용제에 분산시키는 단계는 나노 분말을 고상 유기 용제와 혼합하여 수행되는 것을 특징으로 하는 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
8 8
제5항에 있어서, 상기 나노 분말은 상기 나노 분말은 탄화텅스텐(WC), 탄화티타늄(TiC) 또는 탄화규소(SiC)인 탄화물, 질화규소(SiN) 또는 질화알루미늄(AlN)인 질화물, 또는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 코발트(Co), 니켈(Ni), 철(Fe), 크롬(Cr) 또는 SUS인 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 금속 나노 분말의 산화방지 또는 산소와의 반응방지 처리방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.