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3차원 구조의 이차전지를 제조하는 방법에 있어서, 양극 활물질 슬러리를 패터닝된 제1 스탬프에 도포하는 단계;상기 제1 스탬프를 기판에 스탬핑하는 단계; 및 상기 기판을 소결하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기판은 상부 표면에 패터닝된 양극판을 포함하고, 상기 제1 스탬프를 스탬핑하는 단계에 의해, 상기 제1 스탬프에 도포된 양극 활물질 슬러리가 상기 양극판에 전사되는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 양극 활물질 슬러리는, 양극재 활물질, 바인더, 및 도전재를 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 소결하는 단계 이전에, 음극 활물질 슬러리를 패터닝된 제2 스탬프에 도포하는 단계; 및 상기 제2 스탬프를 상기 기판에 스탬핑하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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제 4 항에 있어서, 상기 기판은 상부 표면에 패터닝된 음극판을 더 포함하고, 상기 제2 스탬프를 스탬핑하는 단계에 의해, 상기 제2 스탬프에 도포된 음극 활물질 슬러리가 상기 음극판에 전사되는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기판은,이 기판의 상부 표면에 패터닝된 음극판; 및 상기 음극판 위에 형성된 탄소나노튜브(CNT) 음극;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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3차원 구조의 이차전지를 제조하는 방법에 있어서, 제1 기판에 양극을 형성하고 제2 기판에 음극을 형성하는 단계; 및상기 제1 기판과 제2 기판을 접합하는 단계;를 포함하고,상기 제1 기판에 양극을 형성하는 것은,양극 활물질 슬러리를 패터닝된 스탬프에 도포하는 단계;상기 스탬프를 상기 제1 기판에 스탬핑하는 단계; 및 상기 제1 기판을 열처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 스탬프를 스탬핑하는 단계에 의해, 상기 스탬프에 도포된 양극 활물질 슬러리가 상기 제1 기판에 전사되는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 양극 활물질 슬러리는, 양극재 활물질, 바인더, 및 도전재를 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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10
제 7 항에 있어서, 상기 제2 기판은 투명 기판이고, 상기 제2 기판에 음극을 형성하는 것은,상기 제2 기판을 마스크 층을 형성하는 단계;상기 제2 기판의 마스크 층 위에 고분자 물질을 코팅하는 단계;상기 제2 기판의 후면에 광을 조사하여 상기 고분자 물질을 경화하는 단계; 및 경화되지 않은 상기 고분자 물질을 상기 제2 기판에서 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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11
제 10 항에 있어서, 상기 고분자 물질을 제2 기판에서 제거하는 단계 이후에, 상기 제2 기판을 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조방법
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12
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 방법에 의해서 제작된 것을 특징으로 하는 이차전지
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