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증착 장비의 챔버의 일부분에 형성된 클리닝 가스 투입구에 설치되고, 클리닝 가스를 챔버 내부로 공급하는 클리닝 가스 공급관;상기 챔버의 타부분에 형성된 클리닝 가스 배출구에 설치되고, 챔버 내부의 클리닝 가스를 배출하는 클리닝 가스 배출관;상기 클리닝 가스 공급관과 상기 클리닝 가스 배출관을 연결시키는 클리닝 가스 순환관; 및상기 클리닝 가스 순환관에 설치되고, 상기 클리닝 가스를 정제하는 클리닝 가스 정제 필터;를 포함하고,상기 챔버 내부에서 클리닝 가스의 이동 경로가 길어지도록 상기 클리닝 가스 투입구는 상기 챔버의 상부의 제 1 모서리부, 제 2 모서리부, 제 3 모서리부 및 제 4 모서리부 중에서 어느 일 모서리부 근방에 설치되고, 상기 클리닝 가스 배출구는 상기 챔버의 하부의 제 5 모서리부, 제 6 모서리부, 제 7 모서리부 및 제 8 모서리부 중에서 상기 일 모서리부와 3차원 대각선 방향으로 반대편에 위치하는 다른 모서리부에 설치되는 것인, 클리닝 가스 순환 장치
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제 1 항에 있어서,상기 클리닝 가스 투입구는, 상기 챔버의 상면의 제 1 모서리부 근방에 설치되고,상기 클리닝 가스 배출구는, 상기 챔버의 제 1 측면, 제 2 측면, 제 3 측면 및 제 4 측면 중에서 제 3 측면의 하부의 제 7 모서리부 근방에 설치되는 것인, 클리닝 가스 순환 장치
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제 1 항에 있어서,상기 클리닝 가스 순환관에 설치되고, 상기 클리닝 가스를 순환시키는 순환 펌프;를 더 포함하는, 클리닝 가스 순환 장치
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제 1 항에 있어서,상기 챔버는, 내벽에 상기 클리닝 가스를 가열하는 히터가 설치되는 것인, 클리닝 가스 순환 장치,
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제 1 항에 있어서,상기 클리닝 가스 투입구를 통해 투입된 상기 클리닝 가스를 안내할 수 있도록 상기 클리닝 가스 투입구 근방에 설치되는 가스 투입 가이드 부재;를 더 포함하는, 클리닝 가스 순환 장치
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제 1 항에 있어서,상기 가스 투입 가이드 부재는,상기 챔버의 내벽을 따라 상기 내벽과 이격되게 설치되고, 복수개의 천공구가 형성되는 천공패널인, 클리닝 가스 순환 장치
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제 1 항에 있어서,상기 클리닝 가스 배출구를 통해 배출될 상기 클리닝 가스를 안내할 수 있도록 상기 클리닝 가스 배출구 근방에 설치되는 가스 배출 가이드 부재;를 더 포함하는, 클리닝 가스 순환 장치
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제 1 항에 있어서,상기 가스 배출 가이드 부재는,상기 챔버의 내벽을 따라 상기 내벽과 이격되게 설치되고, 복수개의 천공구가 형성되는 천공패널인, 클리닝 가스 순환 장치
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증착 장비의 챔버의 일부분에 형성된 클리닝 가스 투입구에 설치되고, 클리닝 가스를 챔버 내부로 공급하는 클리닝 가스 공급관;상기 챔버의 타부분에 형성된 클리닝 가스 배출구에 설치되고, 챔버 내부의 클리닝 가스를 배출하는 클리닝 가스 배출관;상기 클리닝 가스 공급관과 상기 클리닝 가스 배출관을 연결시키는 클리닝 가스 순환관; 및상기 클리닝 가스 순환관에 설치되고, 상기 클리닝 가스를 정제하는 클리닝 가스 정제 필터;를 포함하고,상기 챔버 내부에서 클리닝 가스의 이동 경로가 길어지도록 상기 클리닝 가스 투입구는 상기 챔버의 상부의 제 1 모서리부, 제 2 모서리부, 제 3 모서리부 및 제 4 모서리부 중에서 어느 일 모서리부 근방에 설치되고, 상기 클리닝 가스 배출구는 상기 챔버의 하부의 제 5 모서리부, 제 6 모서리부, 제 7 모서리부 및 제 8 모서리부 중에서 상기 일 모서리부와 3차원 대각선 방향으로 반대편에 위치하는 다른 모서리부에 설치되는 것인, 증착 장비
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증착 장비의 챔버의 일부분에 형성된 클리닝 가스 투입구에 설치되고, 클리닝 가스를 챔버 내부로 공급하는 클리닝 가스 공급관;상기 챔버의 타부분에 형성된 클리닝 가스 배출구에 설치되고, 챔버 내부의 클리닝 가스를 배출하는 클리닝 가스 배출관;상기 클리닝 가스 공급관과 상기 클리닝 가스 배출관을 연결시키는 클리닝 가스 순환관; 및상기 클리닝 가스 순환관에 설치되고, 상기 클리닝 가스를 정제하는 클리닝 가스 정제 필터;를 포함하고,상기 챔버 내부에서 클리닝 가스의 이동 경로가 길어지도록 상기 클리닝 가스 투입구는 상기 챔버의 상부의 제 1 모서리부, 제 2 모서리부, 제 3 모서리부 및 제 4 모서리부 중에서 어느 일 모서리부 근방에 설치되고, 상기 클리닝 가스 배출구는 상기 챔버의 하부의 제 5 모서리부, 제 6 모서리부, 제 7 모서리부 및 제 8 모서리부 중에서 상기 일 모서리부와 3차원 대각선 방향으로 반대편에 위치하는 다른 모서리부에 설치되는 것인, 상압 화학기상증착(APCVD: Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition) 장비
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