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원료 물질을 용융시켜 형성된 원료 용액을 공급하는 용융 챔버; 및상기 용융 챔버로부터 공급되는 상기 원료 용액에 가스 및 0
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제 1항에 있어서, 상기 용융 챔버 하부에 형성되어 상기 원료 분말을 수용하는 수용 챔버; 상기 수용 챔버 하부에 형성되며, 상기 원료 분말 중 기설정된 크기 보다 큰 원료 분말을 걸러 내기 위해 기설정된 크기 이하의 체눈을 가지는 스크린;상기 스크린 하부에 형성되며, 스크린을 통과하여 완성된 미세 원료 분말을 수거하는 수거 챔버를 더 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 1항에 있어서, 상기 혼합 가스 분사 장치는, 상기 가스 및 고체 분말이 혼합된 혼합 가스를 생성하여 상기 원료 용액에 상기 혼합 가스를 분사하는 혼합 가스 분사실;상기 혼합 가스 분사실에 가열된 가스를 공급하는 가스 가열실; 및상기 혼합 가스 분사실에 가열된 고체 분말을 공급하는 고체 분말 가열실을 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 3항에 있어서, 상기 혼합 가스 분사 장치는,상기 가스 가열실로 공급되기 위한 가스를 저장하는 가스 저장소; 및 상기 고체 분말 가열실로 공급되기 위한 고체 분말을 저장하는 고체 분말 저장소;를 더 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 1항에 있어서, 상기 원료 물질은 금속, 금속의 합금 및 금속/세라믹 복합물질 중 적어도 어느 하나를 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 1항에 있어서, 상기 고체 분말은 금속 분말, 합금 분말, 금속/세라믹 복합 분말 중 적어도 어느 하나를 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 1항에 있어서, 상기 가스는 공기, 질소, 아르곤, 헬륨 중 적어도 어느 하나를 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 1항에 있어서, 상기 혼합 가스의 온도는 25 내지 750℃인 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 3항에 있어서, 상기 혼합 가스 분사 장치는 분사 노즐과 연결되어 상기 분사 노즐을 이용하여 상기 혼합 가스를 분사하며, 상기 분사 노즐은 홀형(hole type) 또는 오픈 슬릿형(open slit type)인 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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제 12항에 있어서, 상기 분사 노즐은,상기 용융 챔버로부터 공급되는 상기 원료 용액을 중심으로 상기 원료 용액의 둘레에 형성되는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 장치
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원료 물질을 용융시켜 형성된 원료 용액을 공급하는 단계;상기 공급된 원료 용액에 가스 및 0
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제 14항에 있어서,상기 형성된 원료 분말에서 기설정된 크기보다 큰 원료 분말을 걸러내어 기설정된 크기 이하의 미세 원료 분말을 회수하는 단계를 더 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 방법
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제 14항에 있어서,상기 혼합 가스는 저장된 고체 분말 및 가스를 가열한 후, 가열된 고체 분말 및 가스가 혼합된 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 방법
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제 14항에 있어서,상기 원료 물질은 금속, 금속의 합금 및 금속/세라믹 복합물질 중 적어도 어느 하나를 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 방법
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제 14항에 있어서, 상기 고체 분말은 금속 분말, 합금 분말, 금속/세라믹 복합 분말 중 적어도 어느 하나를 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 방법
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제 14항에 있어서, 상기 가스는 공기(air), 질소, 아르곤, 헬륨 중 적어도 어느 하나를 포함하는 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 방법
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제 14항에 있어서, 상기 혼합 가스의 온도는 25 내지 750℃인 혼합 가스 분사를 이용한 미세 분말 제조 방법
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금속, 금속의 합금 및 금속/세라믹 복합물질 중 적어도 하나로 이루어진 원료 분말을 이용하되,제 14항의 제조 방법을 이용하여 제조되며, 크기가 10㎛ 이하인 원료 분말
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