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레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기;상기 레이저 빔이 입사되고 회절되어 복수의 회절광으로 분기시키는 회절광학소자;상기 회절광학소자를 회전시키는 회전 구동부;상기 분기된 회절광을 집광하여 서로 평행한 복수의 회절광으로 유도하는 제1 렌즈;상기 서로 평행한 복수의 회절광을 굴절시켜 서로 간섭하도록 피가공물에 집중시켜 조사하는 제2 렌즈; 및상기 피가공물을 지지하면서 이동 가능하도록 구성된 스테이지를 포함하는 위조방지 패턴 생성장치
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제 1 항에 있어서,상기 회절광학소자는 상기 레이저 빔을 직경 방향으로 서로 이격된 2개의 1차 회절광으로 분기시키도록 구성된 위조방지 패턴 생성장치
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제 1 항에 있어서,상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지는 원형 플레이트 형상으로 구성되고,상기 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 일측에 구비된 풀리(pulley)와, 상기 회절광학소자의 외곽과 상기 풀리를 함께 연결하여 상기 풀리가 회전함에 따라 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 구동 벨트를 포함하는 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성장치
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제 1 항에 있어서,상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지며 원주를 따라 톱니가 형성되고,상기 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 원주 톱니와 치합되는 구동회전 기어가 구비되어 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성장치
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레이저 발진기로부터 레이저 빔을 방출하는 단계;상기 방출된 레이저 빔을 회절광학소자를 통과시켜 복수의 회절광으로 분기시키는 단계;상기 분기된 회절광을 렌즈를 통과시켜 서로 간섭하도록 피가공물에 집중시켜 조사하고 제1 패턴을 가공하는 단계;상기 회절광학소자를 기 설정된 각도만큼 회전시키는 단계; 및상기 피가공물을 기 설정된 거리만큼 이동시킨 다음, 상기 레이저 빔을 상기 회절광학소자 및 렌즈에 차례대로 통과시켜 서로 간섭하도록 상기 피가공물에 집중시켜 조사하고 제2 패턴을 가공하는 단계를 포함하는 위조방지 패턴 생성방법
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제 5 항에 있어서,상기 제1 패턴 가공 후 상기 제2 패턴 가공 시작 전까지 상기 레이저 빔을 차단하는 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성방법
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제 5 항에 있어서,상기 제1 패턴의 홈 방향과 상기 제2 패턴의 홈 방향은 서로 다른 각도를 갖도록 가공되는 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성방법
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레이저 발진기로부터 레이저 빔을 방출하는 단계;상기 방출된 레이저 빔을 편광소자를 통과시켜 편광된 레이저 빔을 방출시키는 단계;상기 편광된 레이저 빔을 렌즈를 통과시켜 피가공물에 조사하고 제1 패턴을 가공하는 단계;상기 편광소자를 기 설정된 각도만큼 회전시키는 단계; 및상기 피가공물을 기 설정된 거리만큼 이동시킨 다음, 상기 레이저 빔을 상기 편광소자 및 렌즈에 차례대로 통과시켜 상기 피가공물에 조사하고 제2 패턴을 가공하는 단계를 포함하고,상기 제1 패턴 가공 후 상기 제2 패턴 가공 시작 전까지 상기 레이저 빔을 차단하는 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성방법
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제 12 항에 있어서,상기 제1 패턴의 홈 방향과 상기 제2 패턴의 홈 방향은 서로 다른 각도를 갖도록 가공되는 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성방법
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