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공정 챔버로부터 진공 펌프를 향하는 공정 가스의 배출 경로 상에 설치되어 공정 가스에 포함된 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기에 있어서,내부로 상기 공정 가스가 통과하는 관 모양의 접지 전극;상기 접지 전극 내부의 공정 가스 스트림을 가로지르도록 상기 공정 가스의 배출 경로 중심에 위치하는 판 모양의 구동 전극; 및상기 구동 전극의 표면을 덮어 보호하는 보호부를 포함하며,상기 구동 전극은 절연체를 통해 상기 접지 전극에 연결 설치되고, 교류 전원부와 연결되어 교류 구동 전압을 인가받는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은 제1 관부와, 제1 관부와 교차하는 제2 관부를 포함하며,상기 절연체와 상기 구동 전극 및 상기 보호부는 상기 제1 관부와 상기 제2 관부의 교차 지점에 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 제1 관부는 상기 제2 관부를 향한 일단에 가변 직경부와 확장부를 차례로 형성하며,상기 절연체와 상기 구동 전극 및 상기 보호부는 상기 제1 관부의 공정 가스 스트림이 부딪히는 상기 확장부의 일측에 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 가변 직경부는 상기 제2 관부와 가까워질수록 커지는 직경을 가지며,상기 확장부는 상기 가변 직경부의 최대 직경보다 큰 직경으로 형성되고,상기 제2 관부는 상기 확장부의 측면에 연결되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 구동 전극은 원판 모양이고,상기 절연체는 상기 구동 전극의 가장자리와 상기 확장부 사이에 제공되며,상기 보호부는 상기 공정 가스 스트림을 향한 상기 구동 전극의 내면을 덮는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제5항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 가변 직경부를 향해 돌출된 돌출부를 포함하며,상기 보호부는 상기 돌출부를 포함한 상기 구동 전극의 내면 전체를 덮는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은 한 방향으로 뻗은 단일 관부로 구성되고,상기 구동 전극과 상기 보호부는 상기 접지 전극의 내부에 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제7항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 공정 가스의 이송 방향을 따라 제1 가변 직경부와 확장부 및 제2 가변 직경부를 차례로 형성하고,상기 구동 전극과 상기 보호부는 상기 확장부의 내측에 위치하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 확장부는 상기 접지 전극 중 가장 큰 직경을 가지며,상기 제1 가변 직경부와 상기 제2 가변 직경부는 상기 확장부와 가까워질수록 커지는 직경을 가지는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제9항에 있어서,상기 확장부는 원주 방향을 따라 절개부를 형성하고,상기 절연체는 고리 모양으로 형성되며 상기 절개부에 고정되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제10항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 절연체의 내경보다 작은 직경의 원판으로 형성되며, 적어도 하나의 연결부에 의해 상기 절연체의 내측에 고정되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제11항에 있어서,상기 연결부는 도전체이고, 상기 절연체를 관통하여 상기 절연체의 외부에서 상기 교류 전원부와 연결되며,상기 보호부는 상기 접지 전극의 내측에서 상기 구동 전극과 상기 연결부의 표면 전체를 덮는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 구동 전극의 전방에서 그 내부로 반응 가스를 주입하는 반응 가스 주입구를 형성하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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