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마스터 기판을 제1 영역과 제2 영역으로 구분하고, 제1 영역을 가공하여 복수의 마이크로 홈부를 형성하는 단계;상기 마스터 기판을 양극산화 처리하여 상기 제1 영역과 상기 제2 영역에 복수의 나노 홈부를 형성하는 단계; 및상기 마스터 기판을 금형 코어로 사용하여 무염료 색 소자의 몸체에 상기 마스터 기판의 미세 패턴을 전사시켜 상기 제1 영역에 대응하는 제3 영역에 복수의 마이크로 돌기와 복수의 나노 돌기를 포함하는 제1 광 결정 구조를 형성하고, 상기 제2 영역에 대응하는 제4 영역에 복수의 나노 돌기를 포함하는 제2 광 결정 구조를 형성하는 단계를 포함하며,상기 제3 영역과 상기 제4 영역은 서로 다른 구조색을 구현하는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 마스터 기판은 알루미늄을 포함하는 양극산화 처리가 가능한 금속으로 제조되는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 영역은 특정 로고나 이름 또는 제품과 관련된 다양한 모양으로 설정되며, 원래 형상의 좌우 역상으로 이루어지는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 복수의 마이크로 홈부는 압입 가공, 레이저 가공, 및 엔드 밀링 가공 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 복수의 마이크로 홈부는 반구형, 사각 피라미드형, 삼각 피라미드형, 및 원기둥 모양 중 어느 하나로 형성되며,상기 복수의 마이크로 홈부 각각의 크기와 상기 복수의 마이크로 홈부 사이의 간격은 1㎛ 이상 1,000㎛ 미만의 범위에 속하는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 압입 가공은 하나의 압입자가 고정된 공구를 이용하여 상기 마스터 기판을 지지하는 스테이지 또는 상기 공구를 움직이면서 상기 마스터 기판을 가압하는 과정으로 이루어지는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 압입 가공 이전에,상기 마스터 기판을 열처리하는 단계; 및상기 열처리된 마스터 기판을 냉각하는 단계를 더 포함하는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 마스터 기판의 열처리는 상기 마스터 기판 소재의 풀림 온도에서 수행되며,상기 마스터 기판의 냉각은 노냉(furnace cooling)으로 진행되는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 마스터 기판을 양극산화 처리할 때, 상기 복수의 마이크로 홈부의 표면을 포함하는 상기 마스터 기판의 표면 전체에 산화피막이 형성되면서 상기 산화피막에 복수의 나노 홈부가 형성되는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 복수의 나노 홈부 각각의 크기와 상기 복수의 나노 홈부 사이의 간격은 1nm 이상 1,000nm 미만의 범위에 속하는 무염료 색 소자의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 광 결정 구조를 형성하는 단계는 사출 성형과 핫 엠보싱 중 어느 하나의 공정으로 진행되는 무염료 색 소자의 제조 방법
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구조색을 구현하는 무염료 색 소자에 있어서,복수의 마이크로 돌기와 복수의 나노 돌기가 조합된 듀얼 스케일의 돌기 패턴을 가지며, 제1 구조색을 구현하는 제1 광 결정 구조; 및복수의 나노 돌기로 구성되며 제2 구조색을 구현하는 제2 광 결정 구조를 포함하고,상기 제1 광 결정 구조의 복수의 나노 돌기와 상기 제2 광 결정 구조의 복수의 나노 돌기는 같은 크기와 같은 밀도로 형성되는 무염료 색 소자
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제13항에 있어서,상기 제1 광 결정 구조는 특정 로고나 이름 또는 제품과 관련된 다양한 모양으로 설정된 영역 내에 위치하며,상기 제2 광 결정 구조는 상기 제1 광 결정 구조가 형성된 영역의 외측에 위치하는 무염료 색 소자
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