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상면에 일정 깊이로 형성되는 링 형상의 내부 공간을 갖는 몸체;상기 몸체 상면에 구비되며, 상기 몸체의 내부 공간과 연통되어 이온빔을 인출하기 위한 개구를 갖는 음극;상기 몸체의 하부면으로부터 상기 내부 공간에 의해 구분되는 중앙 부위와 가장자리 중 상기 가장자리 부위를 관통하여 상기 내부 공간의 외측에서 상기 내부 공간으로 가스를 공급하기 위한 가스 공급 라인; 및상기 몸체의 내부 공간에 상기 음극과 이격되도록 구비되며, 외부로부터 인가되는 전원과 연동하여 상기 음극과 사이에서 전기장을 형성하여 상기 가스를 이온화하는 양극을 포함하고, 상기 몸체는,상면에 일정 깊이로 링 형상의 홈을 가지며, 상기 음극을 지지하는 제1 부재;링 형상을 가지며 상기 홈에 삽입되고, 상기 제1 부재와 같이 상기 음극을 지지하며 상기 내부 공간을 갖는 제2 부재; 및상기 제1 부재의 하부면에 구비되며, 평판 형태를 갖는 제3 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제1항에 있어서, 상기 가스 공급 라인은,상기 제3 부재를 상하로 관통하는 가스 투입구;상기 제3 부재의 상면에 상기 가스 투입구에서부터 다단으로 분기되어 상기 제3 부재의 가장자리까지 연장하는 제1 슬릿;상기 홈과 연결되도록 상기 제1 부재의 상하를 관통하여 구비되며, 상기 제3 부재의 가장자리까지 연장된 제1 슬릿과 각각 연통하는 제1 관통홀들;상기 제2 부재의 하부면 가장자리를 따라 형성되며, 상기 제1 관통홀들과 연통하는 제2 슬릿;상기 제2 부재의 가장자리를 따라 상하를 관통하도록 구비되며, 상기 제2 슬릿과 연통하는 제2 관통홀들; 및상기 제2 부재의 상부면 가장자리를 따라 형성되며, 상기 제2 관통홀들 및 상기 내부 공간과 연통하는 제3 슬릿을 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제3항에 있어서, 상기 제1 관통홀들과 상기 제2 슬릿은 서로 어긋나도록 배치되어 상기 제2 슬릿이 상기 제1 관통홀들과 부분적으로 연통하는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제3항에 있어서, 상기 제1 관통홀들과 상기 제2 관통홀들은 서로 엇갈리도록 배치되는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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제3항에 있어서, 상기 제1 슬릿에서 상기 제3 부재의 길이 방향 양단으로 연장하는 부위에 구비되며, 상기 제1 슬릿의 개방 정도를 조절하여 상기 제1 슬릿의 길이 방향 양단으로 공급되는 상기 가스의 유량을 조절하는 조절 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 소스
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