요약 | 본 발명은 반도체장비인 화학기상증착(CVD)장비, 물리기상증착(PVD)장비, 식각(Etcher) 장비 중 프로세스쳄버의 기밀성을 유지하기 위하여 사용되는 오링에 대한 기밀성을 실제 사용환경하에서 시험하는 반도체장비용 오링의 기밀성시험장치에 관한 것이다.본 발명의 구체적인 수단은, 그 상단면을 따라 시험오링(3)을 삽입하는 장착홈(1-1)이 형성되고, 그 상부에 맹판(2)이 얹히면서 그 내부기밀이 유지되도록 설치되는 시험쳄버(1)와;가스공급라인(12)의 유해가스를 가스공급제어기(11)에 의해 제어되는 전자밸브(14) 또는 바이패스라인(12-1)의 조절밸브(13)를 통해 상기 시험쳄버(1)내에 공급하도록 설치되는 유해가스공급부(10)와;로터리펌프(25)를 작동시켜 1차 감압한 후, 터보분자펌프(22)를 이용하여 설정압력으로 2차 감압함으로써 상기 시험쳄버(1)의 내압을 진공상태로 낮추는 진공형성부(30)와;상기 시험쳄버(1)의 내부를 가열하도록 설치되는 밴드히터(5)와;상기 시험쳄버(1)내의 유해가스, 온도, 압력을 감지하도록 설치되는 센서(4)와;상기 시험쳄버(1)내의 환경이 반도체장비의 프로세스쳄버와 동일상태를 이루도록 상기 유해가스공급부(10)와 진공형성부(30), 밴드히터(5)를 제어하도록 설치되는 제어부(6)로 구성되는 것을 특징으로 한다.반도체장비, 오링, 기밀성시험, 시험쳄버 |
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Int. CL | H01L 21/66 (2006.01) |
CPC | H01L 21/67126(2013.01) H01L 21/67126(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020000069745 (2000.11.22) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-0359995-0000 (2002.10.24) |
공개번호/일자 | 10-2002-0039913 (2002.05.30) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20021107) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2000.11.22) |
심사청구항수 | 1 |