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EBSD를 이용하여 대상 시편의 결정상과 결정방위를 측정하는 단계;상기 측정된 결정방위와 결정상을 바탕으로, 구조단위의 구분 기준값에 따라 구조단위를 구분하는 단계;상호 인접한 2개의 픽셀에서 각각 측정점을 선택하는 단계;상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계; 및상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계를 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 1 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이전에, 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상을 확인하는 단계를 더 포함하고,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후에, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 상이하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위를 확인하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 2 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 구조단위의 크기를 비교하는 단계; 및작은 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보를 큰 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보로 대체하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 1 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이전에, 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위를 확인하는 단계를 더 포함하고,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후에, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상을 확인하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 4 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 상이하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 구조단위의 크기를 비교하는 단계; 및작은 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보를 큰 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보로 대체하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 1 항에 있어서,상기 구조단위의 구분 기준값은픽셀 간 어긋남각이 1 내지 15°인 범위에서 선택되며, 상기 어긋남각이 선택된 구분 기준값의 범위 이내인 경우 인접한 두 픽셀이 동일 구조단위에 해당하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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EBSD를 이용하여 대상 시편의 결정상과 결정방위를 측정하는 단계;상호 인접한 2개의 픽셀에서 각각 측정점을 선택하는 단계;상기 2개의 측정점이 동일 구조단위에 해당하는지 여부를 판단하는 단계;상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계; 및상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계를 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 7 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이전에, 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상을 확인하는 단계를 더 포함하고,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후에, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 상이하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위를 확인하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 8 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 구조단위의 크기를 비교하는 단계; 및작은 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보를 큰 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보로 대체하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 7 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이전에, 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위를 확인하는 단계를 더 포함하고,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후에, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정방위가 동일하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상을 확인하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 10 항에 있어서,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 동일한 지 여부를 판단하는 단계 이후,상기 2개의 측정점이 위치하는 픽셀의 결정상이 상이하면, 상기 2개의 측정점이 위치하는 구조단위의 크기를 비교하는 단계; 및작은 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보를 큰 구조단위에 속하는 픽셀의 결정상의 정보로 대체하는 단계를 더 포함하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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제 7 항에 있어서,상기 구조단위의 구분 기준값은픽셀 간 어긋남각이 1 내지 15°인 범위에서 선택되며, 상기 어긋남각이 선택된 구분 기준값의 범위 이내인 경우 인접한 두 픽셀이 동일 구조단위에 해당하는 전자후방산란회절 맵핑 결과 상의 상인식 오류의 필터링 방법
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