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취성 소재의 기판을 준비하는 단계;상기 기판의 표면을 공구로 스크래치 가공하여 제1 요철 패턴을 형성함과 동시에 가공 깊이를 증가시키면서 가공 깊이와 가공 길이 및 공구의 하중을 실시간으로 측정하는 단계;상기 측정된 하중을 가공 깊이와 가공 길이 중 어느 하나에 대해 피팅하고, 피팅 데이터로부터 상기 공구의 한계 하중을 결정하는 단계; 및상기 공구에 한계 하중보다 낮은 하중 값을 적용한 후 상기 기판의 표면을 상기 공구로 스크래치 가공하여 제2 요철 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 공구는 다이아몬드 공구이며,상기 제1 요철 패턴의 깊이와 폭은 1nm 이상 1,000nm 미만의 나노미터 스케일 또는 1㎛ 이상 1,000 미만의 마이크로미터 스케일로 형성되는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 공구의 하중을 측정할 때, 가공 장치에 설치된 센서를 이용하여 상기 공구의 수평 하중과 수직 하중을 측정하는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 제1 요철 패턴을 형성할 때, 가공 길이를 따라 연성 가공 구간과 취성 가공 구간이 순서대로 나타나는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 피팅은 수평 하중을 가공 길이에 대해 피팅하는 경우, 수평 하중을 가공 깊이에 대해 피팅하는 경우, 수직 하중을 가공 길이에 대해 피팅하는 경우, 및 수직 하중을 가공 깊이에 대해 피팅하는 경우 중 어느 하나에 해당하는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 피팅 데이터에는 하중이 급격하게 변하는 여러 지점이 존재하며,상기 공구의 한계 하중은 하중이 급격하게 변하는 여러 지점 중 가장 작은 하중 값을 가지는 지점에서의 하중으로 결정되는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 요철 패턴의 깊이는 1nm 이상 1,000nm 미만의 나노미터 스케일로 형성되고, 상기 제2 요철 패턴의 폭은 1nm 이상 1,000nm 미만의 나노미터 스케일 또는 1㎛ 이상 1,000㎛ 미만의 마이크로미터 스케일로 형성되는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 기판은 평판과 원통 모양 중 어느 하나로 형성되는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판은 실리콘, 유리, 사파이어, 및 게르마늄으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하는 임프린트용 마스터의 제조 방법
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취성 재료로 제조되고, 기계적인 스크래치 가공에 의해 형성된 요철 패턴을 포함하며,상기 요철 패턴의 깊이는 1nm 이상 1,000nm 미만의 범위에 속하고,상기 요철 패턴의 단면 형상은 상기 스크래치 가공에 사용된 공구 팁의 단면 형상에 대응하는 임프린트용 마스터
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제10항에 있어서,상기 취성 재료는 실리콘, 유리, 사파이어, 및 게르마늄으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하는 임프린트용 마스터
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제10항에 있어서,상기 임프린트용 마스터 평판과 원통 모양 중 어느 하나로 형성되는 임프린트용 마스터
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제10항에 있어서,제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되며, 상기 제2 요철 패턴이 임프린트 가공을 위한 요철 패턴으로 기능하는 임프린트용 마스터
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