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표시 영역과 접합 영역을 구비한 기판을 지지하는 접지 전극;상기 접합 영역의 상부에 위치하는 제1 유전체;상기 표시 영역의 상부에 위치하며, 방전 가스가 제공되는 중앙 슬릿을 사이에 두고 상기 제1 유전체와 대향 배치되는 제2 유전체; 및상기 제1 유전체의 내부에 위치하는 구동 전극을 포함하며,상기 구동 전극 하부의 방전 공간에 플라즈마가 생성되어 상기 접합 영역을 표면 처리하고,상기 제2 유전체는 상기 제1 유전체보다 상기 접지 전극에 가깝게 위치하여 상기 표시 영역을 상기 방전 공간으로부터 격리시키는 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 중앙 슬릿을 향한 제1 표면과 상기 접지 전극을 향한 제2 표면을 포함하며,상기 제1 유전체 중 상기 제2 표면과 접하는 밑벽의 두께는 상기 제1 표면과 접하는 내벽의 두께보다 작은 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 중앙 슬릿과 마주하는 수직부와, 상기 수직부의 하측 단부와 접하며 상기 접지 전극과 마주하는 수평부를 포함하고,상기 수평부가 상기 수직부보다 상기 제2 유전체로부터 멀리 위치하는 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 구동 전극은 일정한 수직 폭과 일정한 수평 폭을 가지며,상기 제1 유전체의 외벽 두께는 상기 밑벽의 두께 및 상기 내벽의 두께보다 큰 플라즈마 반응기
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삭제
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제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2 유전체는 상기 기판의 표시 영역 전체에 대응하며,상기 제1 유전체와 상기 구동 전극은 상기 제2 유전체의 양측에 위치하는 플라즈마 반응기
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제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2 유전체는 상기 기판의 표시 영역 전체에 대응하며,상기 제1 유전체와 상기 구동 전극은 상기 제2 유전체의 상하 양측과 좌우 양측에 각각 위치하는 플라즈마 반응기
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상부 기판과 하부 기판을 로딩하는 단계;상기 상부 기판과 상기 하부 기판 중 적어도 한 기판의 접합 영역을 플라즈마 표면 처리하여 접합 영역의 접착성을 높이는 단계; 및실런트를 이용하여 상기 상부 기판과 상기 하부 기판을 접합시키는 단계를 포함하며,상기 플라즈마 표면 처리는 방전 가스가 제공되는 중앙 슬릿을 사이에 두고 대향 배치되는 제1 및 제2 유전체와, 제1 및 제2 유전체의 하부에 위치하는 접지 전극과, 제1 유전체의 내부에 위치하는 구동 전극을 구비한 플라즈마 반응기를 이용하며,상기 적어도 한 기판의 접합 영역은 상기 구동 전극 하부의 방전 공간에 위치하는 표시 장치용 기판의 접합 방법
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제8항에 있어서,상기 제2 유전체는 상기 제1 유전체보다 상기 기판에 가깝게 위치하여 상기 기판의 표시 영역을 상기 방전 공간으로부터 격리시키는 표시 장치용 기판의 접합 방법
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