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합성수지 필름에 임프린팅 패턴을 형성하도록 마스터 패턴을 구비한 임프린팅 롤;상기 임프린팅 롤에 대응하여 상기 합성수지 필름을 지지하는 백업 롤; 및상기 임프린팅 롤의 상기 마스터 패턴에 의하여 임프린팅 되는 상기 합성수지 필름의 임프린팅 대상부를 국부적으로 임프린팅과 동시에 가열하는 광원을 포함하며,상기 광원은,적외선 램프로 형성되고,상기 임프린팅 롤의 반대측에서 상기 적외선 램프의 외곽에 배치되는 리플렉터를 더 포함하며,상기 리플렉터는 타원형으로 설계되어 상기 적외선 램프로부터 설정된 거리로 이격되고,상기 적외선 램프는 중파장 적외선 램프로 형성되며,상기 중파장 적외선 램프는 최대 복사 파워 파장이 2~4 ㎛의 파장 범위를 가지는 임프린팅 장치
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제1항에 있어서,상기 백업 롤은 투명 롤로 형성되고,상기 광원은 상기 백업 롤의 내부에 장착되는 임프린팅 장치
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제2항에 있어서,상기 적외선 램프는,상기 리플렉터의 반대측에 반사코팅층을 더 포함하는 임프린팅 장치
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제1항에 있어서,상기 적외선 램프는 상기 합성수지 필름의 상부와 하부 중 적어도 일측에 구비되고,상기 리플렉터는 상기 합성수지 필름의 임프린팅 대상부를 향하는 임프린팅 장치
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제1항에 있어서,상기 합성수지 필름은,PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), PC(polycarbonate), PMMA(polymethyl methacrylate) 및 PI(polyimide) 중 어느 하나로 형성되는 임프린팅 장치
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합성수지 필름을 투입하는 제1단계;임프린팅 롤과 백업 롤 사이로 진행되어 임프린팅 되는 상기 합성수지 필름의 임프린팅 대상부에 광원의 적외선을 국부적으로 임프린팅과 동시에 조사하는 제2단계; 및가열된 상기 합성수지 필름을 임프린팅 하는 제3단계를 포함하며,상기 광원은 적외선 램프로 형성되고,상기 임프린팅 롤의 반대측에서 상기 적외선 램프의 외곽에 배치되는 리플렉터를 더 포함하며,상기 리플렉터는 타원형으로 설계되어 상기 적외선 램프로부터 설정된 거리로 이격되고,상기 제2단계는,상기 적외선 램프로 사용되는 중파장 적외선 램프의 최대 복사 파워 파장을 2~4 ㎛로 설정하는 임프린팅 방법
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제10항에 있어서,상기 제1단계는합성수지 필름으로 PET(polyethylene terephthalate), PEN(polyethylene naphthalate), PC(polycarbonate), PMMA(polymethyl methacrylate) 및 PI(polyimide) 중 어느 하나를 투입하는 임프린팅 방법
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