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중공의 반응로(10)와; 상기 반응로(10)의 내부에 플라즈마 반응을 위한 방전전압을 생성시키기 위해 상기 반응로(10)의 벽체(11)와 일정거리 이격되는 형태로 상기 반응로(10)의 저면으로 내입되는 전극(20);을 포함하여 구성되고, 상기 반응로(10)에는 원료의 유입을 위한 원료유입로(30)가 상기 반응로(10)의 벽체(11)에 형성된 유입홀(31)을 매개로 연통되고, 상기 유입홀(31)은 유입되는 원료가 회전류를 형성하며 진행될 수 있도록 상기 반응로(10) 벽체(11)면과 경사지게 관통 형성되며, 상기 반응로(10)의 상측에는 상기 반응로(10)의 내부로부터 반응물을 배출시키기 위한 배출구(40)가 형성되되, 상기 배출구(40)는 배출되는 반응물의 흐름이 제한될 수 있도록 그 직경이 상기 반응로(10)의 내경 보다 상대적으로 작게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 배출구(40)는 배출되는 반응물질이 안내되어 수집 배출되도록 가이드면(41)이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 전극(20)은 상협하광의 원추 형태로 저면에는 원기둥이 연장 형성되고, 원추의 꼭지점과, 원추와 원기둥의 연결부분은 라운드 형성되되, 상기 원추와 원기둥의 연결지점은 길이 상향방향으로 점차 넓게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 배출구(40)는 2개 이상 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 전극(20)과 배출구(40) 사이에는 격벽(50)이 형성되며, 상기 격벽(50)에는 관통홀(51)이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 5 항에 있어서,상기 관통홀(51)과 배출구(40)는 상호 엇갈린 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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제 6 항에 있어서,상기 배출구(40)의 직경은 상기 관통홀(51)의 직경 보다 상대적으로 작게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
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