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초음파를 발생시키는 압전소자(111), 상기 압전소자(111)의 일측과 결합되고 세정대상(500)에 대향하도록 구비되어 상기 압전소자(111)에서 발생하는 초음파를 상기 세정대상(500)에 전달하는 초음파 전달체(112), 상기 압전소자(111)에 전원을 인가하는 전원선(113), 외부로부터 인가되는 초음파 진동 신호를 상기 전원선(113)으로 전달하는 소켓 연결부(114), 상기 소켓 연결부(114)가 일측에 형성되며 상기 압전소자(111) 및 상기 전원선(113)을 내장하는 하우징(115)을 포함하여 이루어져 상기 세정대상(500)에 도포된 세정액에 초음파 진동을 가하는 복수 개의 초음파 세정모듈(110);상기 초음파 세정모듈(110)의 상기 소켓 연결부(114)와 분리 및 결합 가능하게 형성되는 초음파 세정모듈 소켓(120);초음파 진동 신호를 발생시키며, 상기 초음파 세정모듈 소켓(120)과 연결되어 상기 초음파 세정모듈 소켓(120)에 결합된 상기 초음파 세정모듈(110)에 초음파 진동 신호를 인가하는 초음파 진동 발진기(130);을 포함하여 이루어지며,상기 초음파 진동 발진기(130)는, 초음파 진동 신호의 주파수 대역 및 초음파 진동 신호의 전력 크기가 변경 가능하게 형성되는 것을 특징으로 하는 초음파 세정장치 플랫폼
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제 1항에 있어서, 복수 개의 상기 초음파 세정모듈(110)은상기 압전소자(111)의 개수, 상기 압전소자(111)의 상기 하우징(115) 내 위치, 상기 초음파 전달체(112)의 형상, 상기 초음파 전달체(112)의 구조를 포함하는 구성 조건 중 선택되는 적어도 하나가 서로 다르게 형성되는 것을 특징으로 하는 초음파 세정장치 플랫폼
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제 1항에 있어서, 상기 세정대상(500)은웨이퍼인 것을 특징으로 하는 초음파 세정장치 플랫폼
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제 1항에 있어서, 상기 초음파 세정장치 플랫폼(100)은상기 세정대상(500)이 놓여지는 세정대상 지지부(140);상기 세정대상(500)의 표면에 세정액을 도포하는 세정액 공급부(150);상기 초음파 세정모듈(110), 상기 초음파 세정모듈 소켓(120), 상기 세정대상 지지부(140), 상기 세정액 공급부(150)를 내부에 수용하며 외부로부터 밀폐 가능하게 형성되는 시스템 케이스(160);를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 초음파 세정장치 플랫폼
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제 5항에 있어서, 상기 초음파 세정장치 플랫폼(100)은상기 세정대상(500)이 웨이퍼로서, 한 번의 세정공정 시 상기 세정대상 지지부(140)에 단일 개의 세정대상(500)이 놓여져서 세정이 이루어지는 매엽식(single wafer cleaning type)인 것을 특징으로 하는 초음파 세정장치 플랫폼
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