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내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하며, 일측에 가스 주입구와 반대편 일측에 가스 배출구를 형성하는 유전 지지체;상기 가스 주입구를 관통하면서 적어도 일부가 상기 유전 지지체의 내부에 위치하고, 교류 전압을 인가받는 제1 구동 전극;상기 유전 지지체의 반경 방향을 따라 상기 제1 구동 전극과 겹치도록 상기 유전 지지체 상에 위치하며, 교류 전압을 인가받는 제2 구동 전극; 및상기 유전 지지체 상에서 상기 제2 구동 전극과 이격 배치되는 접지 전극을 포함하는 분사형 플라즈마 발생기
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제1항에 있어서,상기 제1 구동 전극은 막대 모양으로 형성되고, 상기 가스 주입구의 중앙을 관통하면서 상기 유전 지지체의 길이 방향과 나란하게 배치되는 분사형 플라즈마 발생기
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제2항에 있어서,상기 가스 배출구를 향한 상기 제1 구동 전극의 단부는 상기 제2 구동 전극보다 상기 가스 배출구에 가깝게 위치하고,상기 접지 전극은 상기 제1 구동 전극 및 상기 제2 구동 전극보다 상기 가스 배출구에 더 가깝게 위치하는 분사형 플라즈마 발생기
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제3항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극은 공통 전원부에 연결되어 같은 교류 전압을 인가받는 분사형 플라즈마 발생기
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5
제3항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극은 제1 전원부 및 제2 전원부에 각각 연결되어 제1 교류 전압과 제2 교류 전압을 각각 인가받으며,상기 제1 교류 전압과 상기 제2 교류 전압은 서로 반대 극성의 바이폴라 펄스 전압인 분사형 플라즈마 발생기
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6
제5항에 있어서,상기 제1 교류 전압과 상기 제2 교류 전압은 같은 크기(진폭)를 가지는 분사형 플라즈마 발생기
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7
제5항에 있어서,상기 제1 교류 전압과 상기 제2 교류 전압은 서로 다른 크기(진폭)를 가지는 분사형 플라즈마 발생기
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8
제3항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 유전 지지체의 길이 방향을 따라 서로 이격된 복수의 접지 전극으로 구성되는 분사형 플라즈마 발생기
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제3항에 있어서,상기 제2 구동 전극과 상기 접지 전극은 상기 유전 지지체의 외면과 접하는 고리 모양으로 형성되는 분사형 플라즈마 발생기
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10
제3항에 있어서,상기 제2 구동 전극과 상기 접지 전극은 상기 유전 지지체의 길이 방향을 따라 기 설정된 폭을 가지는 관 또는 덕트 모양으로 형성되는 분사형 플라즈마 발생기
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11
제3항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 구동 전극은 길이 방향을 따라 그 내부를 관통하는 관통 홀을 형성하여 일측에 가스 주입구를 형성하고, 반대편 일측에 가스 배출구를 형성하는 분사형 플라즈마 발생기
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12
제11항에 있어서,상기 제1 구동 전극의 가스 주입구로 방전 가스와 반응성 가스 또는 공정 가스의 혼합물이 투입되는 분사형 플라즈마 발생기
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13
제11항에 있어서,상기 유전 지지체의 가스 주입구로 방전 가스가 투입되고,상기 제1 구동 전극의 가스 주입구로 반응성 가스 또는 공정 가스가 투입되는 분사형 플라즈마 발생기
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14
제11항에 있어서,상기 접지 전극과 상기 가스 배출구 사이의 상기 유전 지지체 상에 적어도 하나의 보조 주입구가 형성되는 분사형 플라즈마 발생기
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