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인공와우장치

  • 기술번호 : KST2015130643
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 인공와우장치에 관한 것으로서, 제1기판; 상기 제1기판과 대향되게 배치되며, 전파매질를 수용하는 제2기판; 상기 전파매질과 접촉하도록 배치되며, 서로 다른 대역의 주파수를 가지는 음향파에 각각 반응하는 복수의 기저막; 상기 제1기판 또는 상기 기저막 중 어느 하나에 접촉 배치되는 접촉부; 상기 접촉부에 대향되도록 상기 기저막 또는 상기 제1기판 중 어느 하나에 접촉 배치되는 베이스부; 상기 베이스부로부터 연장되고, 상기 입사되는 음향파에 의하여 발생되는 전기신호를 상기 접촉부에 전달하는 나노와이어;를 포함하는 것을 특징으로 한다.이에 의하여, 감지할 수 있는 음향파 주파수의 대역을 확장할 수 있는 인공와우장치가 제공된다.
Int. CL H04R 25/00 (2006.01) A61F 11/00 (2006.01)
CPC H04R 25/48(2013.01) H04R 25/48(2013.01) H04R 25/48(2013.01)
출원번호/일자 1020100074768 (2010.08.02)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1144731-0000 (2012.05.03)
공개번호/일자 10-2012-0012667 (2012.02.10) 문서열기
공고번호/일자 (20120524) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.08.02)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김완두 대한민국 대전광역시 유성구
2 허신 대한민국 대전광역시 유성구
3 최홍수 대한민국 대전광역시 유성구
4 박수아 대한민국 대전광역시 유성구
5 박준식 대한민국 대전광역시 유성구
6 이승현 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.08.02 수리 (Accepted) 1-1-2010-0499430-15
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.05.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2011-0053506-47
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.09.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0506517-35
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2011-0876680-45
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.11.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0876692-93
9 등록결정서
Decision to grant
2012.04.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0229458-09
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1기판;상기 제1기판과 대향되게 배치되며, 전파매질를 수용하는 제2기판;상기 전파매질과 접촉하도록 배치되며, 서로 다른 대역의 주파수를 가지는 음향파에 각각 반응하는 복수의 기저막;상기 제1기판 또는 상기 기저막 중 어느 하나에 접촉 배치되는 접촉부;상기 접촉부에 대향되도록 상기 기저막 또는 상기 제1기판 중 어느 하나에 접촉 배치되는 베이스부;상기 베이스부로부터 연장되고, 상기 입사되는 음향파에 의하여 발생되는 전기신호를 상기 접촉부에 전달하는 나노와이어;를 포함하는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
2 2
제1항에 있어서,상기 나노와이어는 상기 베이스부로부터 상기 접촉부 측으로 연장되고, 상기 음향파에 진동하는 기저막에 의하여 상기 접촉부와 접촉하여 변형을 일으킴으로써 전기신호를 발생시키는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
3 3
제1항에 있어서,상기 복수의 기저막은 상기 전파매질의 상면 또는 하면 중 어느 하나에 배치되는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
4 4
제3항에 있어서,상기 복수의 기저막은 상기 전파매질의 상면에 위치하되, 서로가 폭방향으로 소정간격 이격되어 병렬적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
5 5
제3항에 있어서,상기 제1기판은 제2기판의 상측과 하측에 각각 하나씩 마련되며,상기 복수의 기저막은 상기 전파매질의 상면과 하면에 각각 적어도 하나가 마련되는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
6 6
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 기저막은 서로 다른 강성(stiffness)을 가지는 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
7 7
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 기저막은 서로 다른 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
8 8
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 기저막은 서로 다른 형상의 단면을 가지는 것을 특징으로 하는 인공와우장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
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