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금속기판을 제공하는 단계;상기 금속기판의 적어도 일면 상에 에어로졸 성막법을 이용하여 하지층을 형성하는 단계; 및상기 하지층 상에 촉매물질을 담지한 세라믹 재료로 이루어진 촉매층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 촉매층은 V2O5 입자와 TiO2 입자를 포함하는 혼합체를 이용하여 형성하는, 촉매층 코팅기판 제조방법
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금속기판을 제공하는 단계;상기 금속기판의 적어도 일면 상에 에어로졸 성막법을 이용하여 하지층을 형성하는 단계; 및상기 하지층 상에 촉매물질을 담지한 세라믹 재료로 이루어진 촉매층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 촉매층은 Al2O3 입자를 포함하는 워시코트층에 1종 이상의 촉매물질이 함유되도록 형성하는, 촉매층 코팅기판 제조방법
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금속기판을 제공하는 단계;상기 금속기판의 적어도 일면 상에 에어로졸 성막법을 이용하여 하지층을 형성하는 단계; 및상기 하지층 상에 촉매물질을 담지한 세라믹 재료로 이루어진 촉매층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 촉매층은 일부가 하나 이상의 촉매원소로 이온 치환된 제올라이트 입자를 포함하여 형성하는, 촉매층 코팅기판 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하지층은 세라믹 재료로 형성하는, 촉매층 코팅기판 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하지층 및 상기 촉매층은 서로 동일한 계열의 세라믹 재료를 포함하도록 형성하는, 촉매층 코팅기판 제조방법
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하지층은 Al2O3계, TiO2계, 제올라이트계, SiO2계, ZrO2계 및 CeO2계 중 어느 하나 이상으로 형성하는, 촉매층 코팅기판 제조방법
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금속기판;상기 금속기판의 적어도 일면 상에 형성된 하지층; 및 상기 하지층 상에 형성된 촉매층을 포함하며,상기 하지층은 에어로졸 성막법에 의해 형성되고, 상기 촉매층은 탄화수소를 수소로 개질하기 위한 연료 개질용 촉매층인, 촉매층 코팅기판
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금속기판;상기 금속기판의 적어도 일면 상에 형성된 하지층; 및 상기 하지층 상에 형성된 촉매층을 포함하며,상기 하지층은 에어로졸 성막법에 의해 형성되고, 상기 촉매층은 V2O5 입자와 TiO2 입자를 포함하는 혼합체를 포함하는, 촉매층 코팅기판
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금속기판;상기 금속기판의 적어도 일면 상에 형성된 하지층; 및 상기 하지층 상에 형성된 촉매층을 포함하며,상기 하지층은 에어로졸 성막법에 의해 형성되고, 상기 촉매층은 Al2O3 입자를 포함하는 워시코트층에 1종 이상의 촉매물질을 포함하는, 촉매층 코팅기판
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금속기판;상기 금속기판의 적어도 일면 상에 형성된 하지층; 및 상기 하지층 상에 형성된 촉매층을 포함하며,상기 하지층은 에어로졸 성막법에 의해 형성되고, 상기 촉매층은 일부가 하나 이상의 촉매원소로 이온 치환된 제올라이트를 포함하는, 촉매층 코팅기판
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제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하지층은 세라믹 재료로 이루어진, 촉매층 코팅기판
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제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하지층은 상기 촉매층에 포함된 세라믹 재료와 동일한 계열의 세라믹 재료를 포함하는, 촉매층 코팅기판
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제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 촉매층은 배기가스 저감용 촉매층인, 촉매층 코팅기판
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제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 촉매층은 탄화수소를 수소로 개질하기 위한 연료 개질용 촉매층인, 촉매층 코팅기판
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제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하지층은 Al2O3계, TiO2계, 제올라이트계, SiO2계, ZrO2계 및 CeO2계 중 어느 하나 이상을 포함하는, 촉매층 코팅기판
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제7항 내지 제10항 중 어느 한 항의 촉매층 코팅기판을 이용하여 제조한 촉매 구조체
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