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내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하며, 일측에 가스 주입구와 반대편 일측에 가스 배출구를 형성하는 유전 지지체;상기 가스 주입구를 관통하면서 적어도 일부가 상기 유전 지지체의 내부에 위치하고, 상기 가스 배출구를 향한 단부에 볼록한 곡면부를 형성하는 구동 전극; 및상기 유전 지지체의 외벽과 접하며 상기 유전 지지체의 원주 방향을 따라 상기 유전 지지체를 둘러싸고, 상기 유전 지지체의 축 방향을 따라 상기 곡면부와 상기 가스 배출구 사이에 위치하는 접지 전극을 포함하며,상기 구동 전극과 상기 접지 전극 사이의 거리는 상기 곡면부의 위치에 따라 변하는 분사형 플라즈마 발생기
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제1항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 곡면부를 포함하는 제1 구동 전극; 및상기 유전 지지체의 반경 방향을 따라 상기 제1 구동 전극과 겹치도록 상기 유전 지치체 상에 위치하는 제2 구동 전극을 포함하는 분사형 플라즈마 발생기
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제3항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극은 공통 전원부에 연결되어 동일한 교류 전압을 인가받는 분사형 플라즈마 발생기
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제3항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극은 각자의 전원부에 연결되어 제1 교류 전압과 제2 교류 전압을 각각 인가받으며,상기 제1 교류 전압과 상기 제2 교류 전압은 서로 반대 극성의 바이폴라 펄스 전압인 분사형 플라즈마 발생기
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제1항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 유전 지지체의 축 방향을 따라 그 내부를 관통하는 관통 홀을 형성하여 일측에 가스 주입구를 형성하고, 반대편 일측에 가스 배출구를 형성하는 분사형 플라즈마 발생기
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제6항에 있어서,상기 구동 전극의 가스 배출구는 상기 유전 지지체의 내부 정중앙에 위치하는 분사형 플라즈마 발생기
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제6항에 있어서,상기 유전 지지체의 가스 주입구로 방전 가스가 투입되고,상기 구동 전극의 가스 주입구로 반응성 가스 또는 공정 가스가 투입되는 분사형 플라즈마 발생기
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제6항에 있어서,상기 유전 지지체 상에 보조 주입구가 형성되고,상기 보조 주입구는 상기 유전 지지체의 축 방향을 따라 상기 곡면부와 상기 유전 지지체의 가스 배출구 사이에 위치하는 분사형 플라즈마 발생기
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제1항에 있어서,상기 가스 주입구는 상기 유전 지지체의 원주 방향을 따라 등간격으로 배치되며, 상기 유전 지지체의 반경 방향에 대해 경사각을 가지도록 형성되는 분사형 플라즈마 발생기
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제10항에 있어서,상기 접지 전극과 상기 유전 지지체의 가스 배출구 사이의 상기 유전 지지체 상에 원주 방향을 따라 복수의 보조 주입구가 형성되고,상기 복수의 보조 주입구 각각은 상기 유전 지지체의 반경 방향에 대해 경사각을 가지도록 형성되는 분사형 플라즈마 발생기
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제1항, 제3항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 곡면부는 포물선 또는 원호 모양의 유선형 단면을 가지는 분사형 플라즈마 발생기
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제1항, 제3항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 곡면부는 원뿔의 일부를 이루는 제1 곡면부와, 포물선 또는 원호 모양의 유선형 단면을 가지는 제2 곡면부를 포함하는 분사형 플라즈마 발생기
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제1항, 제3항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 곡면부는 원뿔 모양으로 형성되는 분사형 플라즈마 발생기
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