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희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스처리방법

  • 기술번호 : KST2015130684
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 제올라이트(zeolite)의 양이온을 희토류 금속의 양이온으로 치환시켜 제조된 희토류 촉매를 유전체와 함께 반응기 내에 충진하고 유해물질을 포함하는 가스를 주입한 다음, 반응기에 전력을 공급하여 저온 플라즈마를 발생시킴으로써 상기 유해물질을 분해 또는 산화시키는 공정을 포함하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 유해가스 처리를 목적으로 하는 저온 플라즈마 공법 수행시 플라즈마 발생을 보다 안정화시키고 유해물질 처리 효율을 향상시키고자, 전기전도성이 작고 가격이 저렴한 희토류 금속의 양이온으로 치환된 촉매를 공지의 유전체와 함께 플라즈마 반응기에 충진하고 유해물질이 포함된 가스를 주입한 다음 교류 또는 펄스 전력을 공급하여 저온 플라즈마를 발생시킨다. 본 발명의 방법은 유해가스 처리효율이 높고 적용조건에 대한 제한이 적어 공기 중의 유독 또는 유해한 물질의 제거가 필요한 다양한 경우에 용이하게 적용될 수 있다. 저온 플라즈마, 희토류 금속, 전이금속, 촉매, 유해가스
Int. CL B01D 53/32 (2006.01) B01D 53/86 (2006.01)
CPC B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01) B01D 53/32(2013.01)
출원번호/일자 1020000034284 (2000.06.21)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0003890 (2002.01.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.06.21)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이헌정 대한민국 대전광역시 유성구
2 최연석 대한민국 대전광역시 유성구
3 송영훈 대한민국 대전광역시 유성구
4 김석준 대한민국 대전광역시 서구
5 신완호 대한민국 충청북도청주시상당구
6 김관태 대한민국 대전광역시서구
7 이재옥 대한민국 대전광역시 유성구
8 한소영 대한민국 대전광역시유성구
9 한의주 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이홍길 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***, *층 (역삼동, 용마빌딩)(신진국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.06.21 수리 (Accepted) 1-1-2000-0127374-31
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.03.03 수리 (Accepted) 4-1-2001-0023554-29
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.04.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.05.20 수리 (Accepted) 9-1-2002-0004620-06
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0187480-84
6 의견서
Written Opinion		 2002.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2002-0245230-80
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.07.29 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0245232-71
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2002.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0466998-33
9 명세서 등 보정서 (심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2003.01.28 수리 (Accepted) 7-1-2003-0000548-99
10 심사전치출원의 심사결과보고서
Notice of Result of Reexamination		 2003.04.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0133573-67
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.01.21 수리 (Accepted) 4-1-2005-0002690-32
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

(i) 제올라이트(zeolite) 담체의 양이온을 희토류 금속의 양이온으로 치환시켜 제조된 희토류 촉매 및 유전체를 플라즈마 반응기 내에 충진하는 공정;

(ii) 상기 반응기에 유해물질을 포함하는 가스를 주입하는 공정; 및,

(iii) 상기 반응기에 전력을 공급하여 저온 플라즈마를 발생시킴으로써 상기 유해물질을 분해 또는 산화시키는 공정을 포함하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

2 2

제 1항에 있어서,

상기 제올라이트 담체는 구슬, 펠렛 또는 하니콤 형상인 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

3 3

제 1항에 있어서,

상기 유전체는 유리, 세라믹, 수정 또는 BaTiO3인 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

4 4

제 1항에 있어서,

상기 유해물질은 VOCs(volatile organic compounds), PFCs(perfluorocompounds), CFCs(chlorofluorocompounds), 다이옥신 및 질소산화물로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

5 5

제 4항에 있어서,

상기 PFCs(perfluorocompounds)는 질소를 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

6 6

제 1항에 있어서,

상기 전력은 교류전력 또는 펄스전력인 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

7 7

제 1항에 있어서,

상기 촉매 및 유전체를 플라즈마 반응기 내에 충진하고 Pt, Pd, Rh 또는 V로 치환된 전이금속 조촉매를 추가로 충진하여 촉매의 내구성을 향상시키는 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

8 8

제 1항에 있어서,

상기 유해물질을 포함하는 가스에 수분 또는 과산화수소를 첨가하여 래디칼 생성을 촉진시키는 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

9 9

제 1항에 있어서,

상기 유해물질을 포함하는 가스를 주입하고 아르곤 또는 헬륨 가스를 추가로 주입하여 플라즈마를 안정화시키는 것을 특징으로 하는 희토류 촉매를 이용한 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.