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표면 처리를 위한 유전체 장벽 방전 반응기

  • 기술번호 : KST2015130771
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 폴리머, 금속, 또는 유리 기판의 표면 처리를 위한 유전체 장벽 방전 반응기가 제공된다. 유전체 장벽 방전 반응기는 중간 접지 전극과, 중간 접지 전극과 함께 반응기 내부 공간을 형성하는 구동 전극들과, 중간 접지 전극 및 구동 전극들과의 사이에 반응기 외부 공간을 형성하며 피처리 기판을 지지하는 접지 전극을 포함한다. 구동 전극들은 교류 전압을 인가 받으며, 반응기 외부 공간보다 반응기 내부 공간에서 플라즈마 방전이 먼저 개시된다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) H05H 1/46 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)
CPC B01J 19/088(2013.01) B01J 19/088(2013.01) B01J 19/088(2013.01)
출원번호/일자 1020130012492 (2013.02.04)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1425191-0000 (2014.07.24)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140801) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.02.04)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허민 대한민국 대전 유성구
2 강우석 대한민국 대전 유성구
3 이재옥 대한민국 대전 유성구
4 이대훈 대한민국 대전 유성구
5 김관태 대한민국 대전 서구
6 송영훈 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0103973-78
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.10.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.11.05 수리 (Accepted) 9-1-2013-0090168-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.02.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0100376-97
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2014-0336320-17
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.04.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0336325-45
7 등록결정서
Decision to grant
2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0344454-16
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
중간 접지 전극;상기 중간 접지 전극과 함께 반응기 내부 공간을 형성하는 구동 전극들; 및상기 중간 접지 전극 및 상기 구동 전극들과의 사이에 반응기 외부 공간을 형성하며 피처리 기판을 지지하는 접지 전극을 포함하고,상기 구동 전극들은 교류 전압을 인가 받으며,상기 반응기 외부 공간보다 상기 반응기 내부 공간에서 플라즈마 방전이 먼저 개시되는 유전체 장벽 방전 반응기
2 2
제1항에 있어서,상기 중간 접지 전극과 상기 구동 전극들은 각자의 유전체로 둘러싸이고,상기 중간 접지 전극과 상기 구동 전극들 사이의 거리는 상기 구동 전극들과 상기 접지 전극 사이의 거리보다 작은 유전체 장벽 방전 반응기
3 3
제2항에 있어서,상기 구동 전극들은 상기 중간 접지 전극을 사이에 두고 제1 방향을 따라 상호 대칭으로 마주하는 제1 구동 전극과 제2 구동 전극을 포함하며,상기 접지 전극은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 상기 중간 접지 전극 및 상기 구동 전극들과 마주하는 유전체 장벽 방전 반응기
4 4
제3항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극 각각은 상기 중간 접지 전극과 마주하는 수직부와, 상기 접지 전극과 마주하는 수평부를 포함하며,상기 수평부는 상기 수직부의 단부에서 서로에 대해 멀어지는 방향으로 배치되는 유전체 장벽 방전 반응기
5 5
제4항에 있어서,상기 제1 구동 전극과 상기 제2 구동 전극 각각을 둘러싸는 상기 유전체에서 상기 수직부와 마주하는 부분의 두께는 상기 접지 전극을 향한 일면에서 상기 수평부와 마주하는 부분의 두께보다 작은 유전체 장벽 방전 반응기
6 6
제3항에 있어서,상기 중간 접지 전극은 판형이고,상기 중간 접지 전극을 둘러싸는 상기 유전체에서 상기 제1 방향을 따라 측정되는 두께는 상기 접지 전극을 향한 일면에서 상기 제2 방향을 따라 측정되는 두께보다 작은 유전체 장벽 방전 반응기
7 7
제3항에 있어서,상기 중간 접지 전극은 상기 제1 방향을 따라 나란히 위치하는 제1 중간 접지 전극과 상기 제2 중간 접지 전극을 포함하고,상기 제1 중간 접지 전극과 상기 제2 중간 접지 전극은 각자의 유전체로 둘러싸이는 유전체 장벽 방전 반응기
8 8
제7항에 있어서,상기 제1 중간 접지 전극과 상기 제2 중간 접지 전극은 판형이고,상기 제1 중간 접지 전극과 상기 제2 중간 접지 전극 각각을 둘러싸는 상기 유전체에서 상기 제1 방향을 따라 측정되는 두께는 상기 접지 전극을 향한 일면에서 상기 제2 방향을 따라 측정되는 두께보다 작은 유전체 장벽 방전 반응기
9 9
제2항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유전체들의 상부에 가스 분배기가 위치하여 상기 반응기 내부 공간으로 헬륨 또는 아르곤을 포함하는 방전 가스를 분사하며,상기 교류 전압은 1kHz 이상의 구동 주파수를 가지는 유전체 장벽 방전 반응기
10 10
제9항에 있어서,상기 가스 분배기는 전구체와 반응 가스 및 방전 가스의 혼합물을 분사하는 유전체 장벽 방전 반응기
11 11
제7항에 있어서,상기 유전체들 상부에서 상기 유전체들 사이마다 하나씩 제공되는 가스 분배기들을 더 포함하며,상기 가스 분배기들 중 상기 제1 중간 접지 전극과 상기 제2 중간 접지 전극 사이에 대응하여 위치하는 가스 분배기는 전구체와 반응 가스 및 방전 가스의 혼합물을 분사하는 유전체 장벽 방전 반응기
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 기계연구원 주요사업 대면적/고속 표면처리용 상압 플라즈마 장비개발 (2/3)