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기판(S)에 전도성 방사 용액(M)을 전기방사법에 의해 방사하여 전기 방사층(110)을 형성하는 단계(S120)와,상기 전기 방사층(110)상에 전도성 유기 폴리머층(120)을 도포하는 단계(S140)를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 전도성 방사 용액(M)은 카본나노튜브가 분산된 방사용액 또는 나노그래핀이 분산된 방사용액 또는 전도성 나노 파이버가 분산된 방사용액에서 선택된 1종 이상의 방사용액인 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 단계(S140) 수행 후 상기 기판(S)과 전도성 유기 폴리머층(120)을 가압하는 단계(S160)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 전기 방사층(110)을 형성하는 단계(S120)를 수행하기 전에 상기 기판(S)을 플라즈마 처리를 하는 단계(S110)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 전기 방사층(110)을 형성하는 단계(S120)를 수행한 후에 상기 전기 방사층(110)을 플라즈마 처리를 하는 단계(S130)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 전기 방사층(110)을 형성하는 단계(S120)를 수행하기 전에 상기 기판(S)상에 전도성 유기 폴리머층(130)을 형성하는 단계(S150)를 더 포함하여상기 전기 방사층(110)의 상하에 각각 전도성 유기 폴리머층(120,130)이 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제6항에 있어서,상기 전도성 유기 폴리머층(120,130)을 형성하는 단계(S140,S150)는 잉크젯 방법, 정전기 프린팅법, 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 딥 코팅법, 스크린 프린팅법, 오프셋 프린팅법, 그라비어 프린팅법, 플렉소 프린팅법, 소프트 몰드를 사용한 프린팅법 중 하나 이상을 사용한 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 기판(S)과 전도성 유기 폴리머층(120)을 가압하는 단계(S160)는 롤링이나 열접합, 초음파 접합 중 어느 하나에 의하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 제조 방법
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제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 의해 제조된 투명 전극
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