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태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법, 이에 의하여 텍스쳐링된 태양전지용 실리콘 웨이퍼 및 이를 포함하는 태양전지

  • 기술번호 : KST2015131625
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법 및 이에 의하여 텍스쳐링된 태양전지용 실리콘 웨이퍼가 제공된다. 본 발명에 따른 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법은 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링을 위한 화학적 식각 공정에 있어서, 식각 용액에 가해지는 압력을 상압 미만의 저압으로 조절하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 저압에서의 텍스쳐링 공정을 통해 효과적으로 수소 기체의 차단 효과를 제거함으로써 실리콘 웨이퍼 표면에 보다 규칙적이고 작은 피라미드를 형성한다. 종래 기술에 비하여 피라미드의 사이즈는 약 2∼3마이크로미터 감소하였고 RMS 조도도 약 200nm 감소하여 개선된 표면상태를 얻었으며 반사도 또한 전 파장범위에서 약 2∼3% 감소한다.
Int. CL H01L 31/18 (2014.01) H01L 21/306 (2014.01) H01L 31/04 (2014.01)
CPC H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01)
출원번호/일자 1020080094734 (2008.09.26)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1029331-0000 (2011.04.07)
공개번호/일자 10-2010-0035374 (2010.04.05) 문서열기
공고번호/일자 (20110415) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.09.26)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동환 대한민국 서울특별시 용산구
2 임희진 대한민국 서울특별시 강남구
3 이준성 대한민국 경기도 김포시
4 박하영 대한민국 서울특별시 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.09.26 수리 (Accepted) 1-1-2008-0678269-11
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.10.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.11.13 수리 (Accepted) 9-1-2009-0063018-09
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2010-0206611-90
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.07.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0298183-75
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.08.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0536792-30
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.08.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0536791-95
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2010.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0593177-98
11 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2011.01.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2011-0002783-24
12 등록결정서
Decision to grant
2011.03.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0146946-64
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링을 위한 화학적 식각공정에 있어서, (a) 챔버 내에 위치한 식각 용액에 실리콘 웨이퍼를 침지시킨 후 상압 하에서 이를 유지하는 단계; 및 (b) 상기 식각 용액에 가해지는 압력을 조절하는 단계를 포함하고, 상기 (b) 단계는 (c) 상기 식각 용액에 가해지는 압력을 상압 미만의 저압으로 낮춘 후 이를 유지하는 단계;및 (d) 상기 상압 미만의 저압으로 낮춘 식각 용액에 가해지는 압력을 다시 상압으로 상승시킨 후 이를 유지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 (c) 및 (d) 단계를 복수 회 반복하는 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 (a)단계와 (b)단계의 시간 비율이 1:2인 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 (c)단계와 (d)단계의 시간 비율이 1:1인 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 (c)단계의 상압 미만의 저압은 상압보다 0
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 웨이퍼는 n-형 단결정 실리콘 또는 p-형 단결정 실리콘인 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 웨이퍼는 n-형 다결정 실리콘 또는 p-형 다결정 실리콘인 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 식각 용액의 온도는 70∼80℃인 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
11 11
제 1 항에 있어서, 상기 식각 용액은 염기성 수화물, 첨가제 및 탈이온수로 이루어진 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 염기성 수화물은 KOH, NaOH, CsOH, RbOH, (CH3)4NOH 및 NH4OH 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
13 13
제 11 항에 있어서, 상기 첨가제는 (CH3)2CHOH, Na2CO3 및 K2CO3 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법
14 14
제 11 항에 있어서, 상기 식각 용액은 염기성 수화물, 첨가제 및 탈이온수의 부피%는 0
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18 18
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20 20
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