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아자이드 작용기가 있는 폴리스티렌 랜덤공중합체를 포함하는 네거티브 톤 전자빔 레지스트 조성물

  • 기술번호 : KST2015131786
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 네거티브 톤 전자빔 레지스트 조성물을 개시한다. 본 발명에 따르면, 아자이드(azide) 작용기가 포함된 폴리스티렌 랜덤공중합체를 포함하는 네거티브 톤 전자빔 레지스트 조성물이 제공된다. 본 발명에 따르면, 전자빔 레지스트의 두께 조절이 용이하며, 낮은 도즈량에서도 리소그래피 공정에 적용될 수 있는 장점이 있다. 전자빔, 레지스트, RAFT 중합, 아자이드, 폴리스티렌, 랜덤공중합체
Int. CL G03F 7/004 (2006.01)
CPC G03F 7/0045(2013.01) G03F 7/0045(2013.01) G03F 7/0045(2013.01) G03F 7/0045(2013.01)
출원번호/일자 1020090016689 (2009.02.27)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0097837 (2010.09.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.02.21)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 하정숙 대한민국 서울특별시 노원구
2 박성찬 대한민국 서울특별시 동대문구
3 허정환 대한민국 경기도 성남시 분당구
4 김규태 대한민국 경기도 광명시 가림일로 **,
5 정현중 대한민국 서울특별시 영등포구
6 방준하 대한민국 서울특별시 동작구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최관락 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)
2 송인호 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)
3 민영준 대한민국 서울특별시 강남구 남부순환로 ****, *층(도곡동, 차우빌딩)(맥스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2009-0122234-18
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.03.03 수리 (Accepted) 1-1-2009-0130363-32
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.06.09 수리 (Accepted) 4-1-2009-5111177-32
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0172041-82
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.03.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2015-0033137-83
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0609879-23
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.11.05 무효 (Invalidation) 1-1-2015-1078589-64
12 보정요구서
Request for Amendment
2015.11.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0174404-26
13 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation
2015.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0193029-08
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.12.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0905460-73
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
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번호 청구항
1 1
아자이드(azide) 작용기가 포함된 폴리스티렌 랜덤공중합체를 포함하는 네거티브 톤 전자빔 레지스트 조성물
2 2
제1항에 있어서, 상기 전자빔 레지스트의 도즈량이 40μC/cm2 내지 116μC/cm2인 네거티브 톤 전자빔 레지스트 조성물
3 3
제1항에 있어서, 상기 폴리스티렌 랜덤공중합체는 RAFT(reversible addition-fragmentation chain transfer) 중합법을 이용하여 합성되는 네거티브 톤 전자빔 레지스트 조성물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 한국과학재단 고려대학교 산학협력단 국가지정연구실사업(NRL) SiP(System in Package) 소자 응용을 위한 상향식(bottom-up) 다층 패터닝 공정