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질화물 반도체 발광소자

  • 기술번호 : KST2015132076
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 휘도특성의 감소, 광추출효율의 감소, 소비전력의 증가, 순방향전압의 증가 및 과도한 발열을 방지할 수 있는 질화물 반도체 발광소자에 관한 것으로, 기판 상에 형성되는 제1 질화물 반도체층; 상기 제1 질화물 반도체층의 제1 영역 상에 다중양자우물구조로 형성되는 활성층; 상기 활성층 상에 형성되는 제2 질화물 반도체층; 상기 제2 질화물 반도체층 상에 형성되는 오믹접촉층; 상기 오믹접촉층 상에, 광이 방출되는 발광면의 제1 꼭지점과 대응하여 형성되는 제1 전극패드; 상기 제1 영역을 제외한 상기 제1 질화물 반도체층의 제2 영역 상에, 상기 제1 꼭지점에 대각선 방향으로 대향하는 상기 발광면의 제2 꼭지점과 대응하여 형성되는 제2 전극패드; 상기 오믹접촉층 상에, 135도 이상의 각도로 절곡되는 적어도 하나의 절곡부를 각각 포함하는 형태로, 상기 제1 전극패드로부터 상기 발광면 측으로 연장되어 형성되는 복수의 제1 전극; 및 상기 제1 질화물 반도체층의 제2 영역 상에, 135도 이상의 각도로 절곡되는 적어도 하나의 절곡부를 각각 포함하는 형태로, 상기 발광면 상에서 상기 복수의 제1 전극과 교번하도록, 상기 제2 전극패드로부터 상기 발광면 측으로 연장되어 형성되는 복수의 제2 전극을 포함한다.
Int. CL H01L 33/36 (2010.01) H01L 33/38 (2010.01)
CPC H01L 33/382(2013.01) H01L 33/382(2013.01) H01L 33/382(2013.01)
출원번호/일자 1020100016199 (2010.02.23)
출원인 엘지디스플레이 주식회사, 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1630339-0000 (2016.06.08)
공개번호/일자 10-2011-0096763 (2011.08.31) 문서열기
공고번호/일자 (20160615) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.01.07)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
2 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김태근 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 김경진 대한민국 대구광역시 동구
3 박윤석 대한민국 경기도 파주시
4 양지원 대한민국 서울특별시 성북구
5 김동호 대한민국 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박영복 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층(역삼동, 삼화빌딩)(특허법인 두성)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지디스플레이 주식회사 서울특별시 영등포구
2 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2010-0118089-68
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.12 수리 (Accepted) 4-1-2010-5149278-93
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.21 수리 (Accepted) 4-1-2010-5241074-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2011-5199065-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.29 수리 (Accepted) 4-1-2011-5262372-95
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
8 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2014.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-1253647-96
9 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.01.07 수리 (Accepted) 1-1-2015-0013276-09
10 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.09.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
11 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.11.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0095793-17
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0808851-13
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2016-0064013-27
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.01.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0064003-71
15 등록결정서
Decision to grant
2016.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0388237-04
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 형성되는 제1 질화물 반도체층;상기 제1 질화물 반도체층의 제1 영역 상에 다중양자우물구조로 형성되는 활성층;상기 활성층 상에 형성되는 제2 질화물 반도체층;상기 제2 질화물 반도체층 상에 형성되는 오믹접촉층;상기 오믹접촉층 상에, 광이 방출되는 발광면의 제1 꼭지점과 대응하여 형성되는 제1 전극패드;상기 제1 영역을 제외한 상기 제1 질화물 반도체층의 제2 영역 상에, 상기 제1 꼭지점에 대각선 방향으로 대향하는 상기 발광면의 제2 꼭지점과 대응하여 형성되는 제2 전극패드; 상기 오믹접촉층 상에, 135도 이상의 각도로 절곡되는 적어도 하나의 절곡부를 각각 포함하는 형태로, 상기 제1 전극패드로부터 상기 발광면 측으로 연장되어 형성되는 복수의 제1 전극; 및상기 제1 질화물 반도체층의 제2 영역 상에, 135도 이상의 각도로 절곡되는 적어도 하나의 절곡부를 각각 포함하는 형태로, 상기 발광면 상에서 상기 복수의 제1 전극과 교번하도록, 상기 제2 전극패드로부터 상기 발광면 측으로 연장되어 형성되는 복수의 제2 전극을 포함하고,상기 복수의 제 1 전극은 중간 제1 전극을 포함하고,상기 중간 제1 전극은, 상기 제1 전극패드에서 상기 제2 전극패드를 향하는 대각선 방향으로 연장되는 제4 연결가지와, 상기 제4 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 하단모서리를 향해 상기 발광면의 좌우측모서리와 평행한 방향으로 연장되는 제5 연결가지와, 상기 제5 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 하단모서리를 향해 대각선 방향으로 연장되는 제6 연결가지를 포함하고,상기 복수의 제2 전극은 중간 제2 전극을 포함하고,상기 중간 제2 전극은, 상기 제2 전극패드에서 상기 제1 전극패드를 향하는 대각선 방향으로 연장되는 제12 연결가지와, 상기 제12 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 상단모서리를 향해 상기 발광면의 좌우측모서리와 평행한 방향으로 연장되는 제13 연결가지와, 상기 제13 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 상단모서리를 향해 대각선 방향으로 연장되는 제14 연결가지를 포함하는 질화물 반도체 발광소자
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이의 간격은 소정의 이격거리로 유지되는 질화물 반도체 발광소자
3 3
제2항에 있어서,상기 복수의 제1 전극과 복수의 상기 제2 전극은 점대칭하는 질화물 반도체 발광소자
4 4
제3항에 있어서,상기 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극 각각은, 상기 발광면의 제1 모서리에 평행한 연결가지 및 상기 발광면의 제1 대각선에 평행한 연결가지를 포함하는 형태로 이루어지는 질화물 반도체 발광소자
5 5
제2항에 있어서,상기 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극 각각은 직선으로 이루어지는 질화물 반도체 발광소자
6 6
제2항에 있어서,상기 제1 질화물 반도체층의 제2 영역은, 상기 오믹접촉층, 상기 제2 질화물 반도체층, 상기 활성층의 적어도 일부를 식각하여 노출되는 영역인 질화물 반도체 발광소자
7 7
제 1 항에 있어서,상기 복수의 제 1 전극은, 좌측 제1 전극을 더 포함하고, 상기 좌측 제1 전극은, 상기 제1 전극패드에서 상기 발광면의 상단모서리를 따라 연장되는 제1 연결가지와, 상기 제1 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 좌측모서리를 향해 대각선 방향으로 연장되는 제2 연결가지와, 상기 제2 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 하단모서리를 향해 상기 발광면의 좌우측모서리와 평행한 방향으로 연장되는 제3 연결가지를 포함하는 질화물 반도체 발광소자
8 8
제 7 항에 있어서,상기 복수의 제2 전극은 우측 제2 전극을 더 포함하고,상기 우측 제2 전극은, 상기 제2 전극패드에서 상기 발광면의 하단모서리를 따라 연장되는 제9 연결가지와, 상기 제9 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 우측모서리를 향해 대각선 방향으로 연장되는 제10 연결가지와, 상기 제10 연결가지에서 절곡되어 상기 발광면의 상단모서리를 향해 상기 발광면의 좌우측모서리와 평행한 방향으로 연장되는 제11 연결가지를 포함하는 질화물 반도체 발광소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.