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(a) 결정질 실리콘 기판 전면에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘 층을 증착하는 단계; 및(b) 상기 불순물이 도핑된 비정질 실리콘층이 증착된 결정질 실리콘 기판을 어닐링(annealing)하는 단계;를 포함하며, 상기 (b) 단계에서는,어닐링에 의해 상기 불순물이 상기 결정질 실리콘 기판으로 확산되어 에미터가 형성되고, 연속적으로 상기 불순물이 빠져나간 비정질 실리콘층이 반사방지막으로 변환되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 (a) 단계는 CVD(Chemical Vapor Deposition) 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 결정질 실리콘 기판은 p형이며, 상기 불순물은 n형 불순물인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 3항에 있어서, 상기 n형 불순물은 인(P), 비소(As) 및 안티몬(Sb)로 이루어진 그룹에서 선택된 1종의 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 결정질 실리콘 기판은 n형이며, 상기 불순물은 p형 불순물인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 p형 불순물은 보론(B), 갈륨(Ga) 및 알루미늄(Al)으로 이루어진 그룹에서 선택된 1종의 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 3항에 있어서,상기 (b) 단계는 800 내지 900 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 (b) 단계는 900 내지 1100 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 (b) 단계는 질소(N2) 또는 산소(O2) 분위기 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 반사방지막은 실리콘 질화막(SiNx) 또는 실리콘 산화막(SiOx)인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법
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