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유해 물질 용출 방지 제품 및 그 제조 방법과 폴리머 제품에 대한 원자층 박막 증착 방법

  • 기술번호 : KST2015132549
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유해 물질 용출 방지 제품 및 제조 방법에 관한 것으로, 원자층 박막 증착 공정을 통해 증착 대상물 표면 전체 영역에 무기질 박막층을 균일하게 미세 기공 없이 형성함으로써, 증착 대상물에 대한 외부 노출이 차단되어 증착 대상물로부터 유해 물질이 생성되는 것 자체를 방지할 뿐만 아니라 유해 물질이 외부로 용출되는 것이 아울러 방지되고, 이에 따라 인체에 무해하여 더욱 안전하게 사용될 수 있는 유해 물질 용출 방지 제품 및 제조 방법과, 폴리머 재질의 제품 표면에 원자층 박막 증착 공정을 통해 무기질 박막층을 형성하는 폴리머 제품에 대한 원자층 박막 증착 방법을 제공한다.
Int. CL B32B 15/06 (2006.01) C23C 16/448 (2006.01)
CPC C23C 16/448(2013.01) C23C 16/448(2013.01)
출원번호/일자 1020120064482 (2012.06.15)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0141233 (2013.12.26) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.29)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 심준형 대한민국 서울특별시 강남구
2 최병호 대한민국 서울특별시 강북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍동우 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, * 층 (역삼동, 혜천빌딩)(지혜안국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2012-0478561-20
2 보정요구서
Request for Amendment
2012.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0079347-56
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0522254-96
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0522246-20
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.04.25 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0046108-94
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0834115-13
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-0095467-88
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.02.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0202079-54
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2014-0309958-03
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
13 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-0410006-11
14 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period
2014.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2014-0072268-19
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.06.02 수리 (Accepted) 1-1-2014-0522120-56
16 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.06.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0522121-02
17 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0737495-84
18 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2014-1273193-27
19 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0092514-56
20 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0198419-79
21 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2015-0316134-08
22 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2015.04.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0065836-13
23 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.04.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0425029-35
24 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0425027-44
25 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.05.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0354052-89
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속 또는 폴리머 재질로 형성되는 증착 대상물; 및상기 증착 대상물 표면의 외부 노출을 차단하도록 상기 증착 대상물의 표면 전체 영역에 기공 없이 균일한 분포로 형성되는 무기질 박막층을 포함하고, 상기 무기질 박막층은 원자층 박막 증착 공정을 통해 증착 형성되며, 상기 증착 대상물은 상기 무기질 박막층에 의해 표면의 외부 노출이 차단됨으로써, 화학 반응에 의한 유해 물질의 외부 용출이 방지되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품
2 2
제 1 항에 있어서,상기 원자층 박막 증착 공정은 상기 증착 대상물의 녹는점 또는 비가역 상변화 온도보다 낮은 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품
3 3
제 2 항에 있어서,상기 증착 대상물이 폴리머 재질로 형성되는 경우,상기 원자층 박막 증착 공정은, 상기 증착 대상물 표면에 상기 원자층 박막 증착 공정시 사용되는 소스 가스와 반응성이 있는 화학적 기능층을 형성한 후, 상기 화학적 기능층을 통해 상기 무기질 박막층이 증착 형성되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품
4 4
제 3 항에 있어서,상기 증착 대상물 표면을 자외선 또는 플라즈마에 노출하는 방식으로 상기 화학적 기능층을 형성하는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품
5 5
금속 또는 폴리머 재질로 형성되는 증착 대상물을 준비하는 준비 단계;원자층 박막 증착 장치의 반응 챔버에 상기 증착 대상물을 투입하는 투입 단계; 및상기 원자층 박막 증착 장치를 작동시켜 상기 증착 대상물의 외부 노출 표면에 기공 없이 균일한 분포로 무기질 박막층을 형성하는 증착 단계를 포함하고, 상기 증착 대상물은 상기 무기질 박막층에 의해 표면의 외부 노출이 차단되어 화학 반응에 의한 유해 물질의 외부 용출이 방지되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서,상기 증착 단계에서 수행되는 원자층 박막 증착 공정은 상기 증착 대상물의 녹는점 또는 비가역 상변화 온도보다 낮은 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품의 제조 방법
7 7
제 6 항에 있어서,상기 증착 대상물이 폴리머 재질로 형성되는 경우,상기 증착 대상물 표면에 상기 원자층 박막 증착 공정시 사용되는 소스 가스와 반응성이 있는 화학적 기능층을 형성하는 기능층 형성 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품의 제조 방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 기능층 형성 단계는 상기 증착 대상물 표면을 자외선 또는 플라즈마에 노출하는 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품의 제조 방법
9 9
제 8 항에 있어서,상기 증착 대상물을 플라즈마에 노출하는 방식은상기 증착 대상물의 표면을 플라즈마에 직접 노출시키는 방식으로 수행되거나 또는 별도의 플라즈마 챔버에서 플라즈마 처리로 생성된 래디칼을 상기 증착 대상물의 표면에 공급하는 리모트 플라즈마 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품의 제조 방법
10 10
제 8 항에 있어서,상기 기능층 형성 단계는 상기 증착 대상물을 상기 반응 챔버에 투입한 상태에서 수행되거나 또는 상기 반응 챔버에 투입하기 전 별도로 수행되는 것을 특징으로 하는 유해 물질 용출 방지 제품의 제조 방법
11 11
폴리머 재질로 형성되는 증착 대상물을 준비하는 준비 단계;상기 증착 대상물 표면에 상기 원자층 박막 증착 공정시 사용되는 소스 가스와 반응성이 있는 화학적 기능층을 형성하는 기능층 형성 단계; 및상기 화학적 기능층이 형성된 증착 대상물의 외부 노출 표면에 원자층 박막 증착 공정을 통해 기공 없이 균일한 분포로 무기질 박막층을 형성하는 증착 단계를 포함하고, 상기 증착 대상물은 상기 무기질 박막층에 의해 표면의 외부 노출이 차단되는 것을 특징으로 하는 폴리머 제품에 대한 원자층 박막 증착 방법
12 12
제 11 항에 있어서,상기 기능층 형성 단계는 상기 증착 대상물 표면을 자외선 또는 플라즈마에 노출하는 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 폴리머 제품에 대한 원자층 박막 증착 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.